Испаряемый металл

Cтраница 3

В слое окисла с помощью специальных фотошаблонов делают отверстие, чтобы испаряемый металл мог контактировать с соответствующими областями схемы. [31]

Для нанесения тонких пленок высокого качества необходима определенная плотность потока частиц испаряемого металла, получаемая при условии, когда они на своем пути от испарителя до основания не имеют столкновений с молекулами остаточных газов. При этом должен поддерживаться вакуум, при котором средняя длина свободного пробега испаряемых частиц будет больше расстояния от испарителя до подложки. [32]

К недостаткам вакуумного испарения относятся: длительность процесса и малый коэффициент использования испаряемого металла, который осаждается не только на покрываемом изделии, но и на поверхности всех деталей, находящихся под колпаком, а также и на внутренних его стенках. [33]

Для испарения металла можно пропускать электрический ток непосредственно через ленту или проволоку из испаряемого металла или же использовать в качестве нагревательного элемента проволоку или спираль из тугоплавкого металла ( вольфрам, молибден), на которой укрепляется кусок испаряемого металла. При нагреве металл, плавясь, превращается в каплю, которая затем постепенно испаряется. [34]

Потери на теплоизлучение в соответствии с законом Стефана - Больцмана пропорциональны коэффициенту черноты поверхности испаряемого металла и четвертой степени абсолютной температуры. Теоретический расчет затруднен отсутствием достоверных данных о степени черноты расплавленных металлов. Тем не менее приближенные расчеты показывают, что при температурах 1400 - 1800 С, применяемых в непрерывных линиях, потери на теплоизлучение составляют 10 - 15 % подводимой к испарителю мощности. [35]

В табл. 7 приведена зависимость плотности получаемых пленок в мкг / см2 от навески испаряемого металла и расстояния между испарителем и образцом. Следует отметить, что приведенная таблица может быть использована для определения плотности пленок, получаемых напылением любых материалов. [36]

Если используется лоток, то на его поверхность укладываются мелкие частицы ( опилки) испаряемого металла. Если же применяется вольфрамовая проволока, то испаряемый металл наносится на ее поверхность электролитическим путем, после чего она свивается в спираль. Другой способ состоит в том, что на вольфрамовую проволоку навивается виток к витку тонкая проволока металла, которую предполагается использовать для вакуумного испарения. Затем вольфрамовая проволока накаляется в атмосфере гелия или аргона и вокруг нее наплавляется сплав металла, используемый в дальнейшем для вакуумного испарения. [37]

Обработка поверхности стали в парах металла производится в вакууме с целью получения на обрабатываемой поверхности слоя испаряемого металла. Нами исследована последняя технология с применением паров хрома и никеля. [38]

Изменение температуры стеклянной подложки на разных этапах процесса нанесения тонкой пленки никеля ( скорость конденсации 1 нм / с. [39]

Большие трудности при расчетах теплоизлучения связаны с тем, что величина коэффициента черноты конденсата, подложки и испаряемого металла может изменяться для одного и того же вещества в зависимости от температуры и характера поверхности. [40]

Напыленный слой металла распределяется по объекту неравномерно: на участках, расположенных под прямым углом к направлению молекулярного пучка испаряемого металла, конденсируется большее количество атомов металла, образуя более толстый слой, чем на остальной поверхности подложки. Благодаря этому на пленке образуется тень, более прозрачная для электронов, чем запыленные металлом места ( фиг. [41]

На структуру тонких пленок независимо от способа их получения существенное влияние оказывают температура подложки при испарении, степень вакуума, свойства испаряемых металлов и свойства материала подложки. [42]

Пластмассовые изделия после тщательной промывки и сушки помещают на стенках камеры, в центре которой расположены нагреваемая током вольфрамовая спираль и лента или скоба испаряемого металла. Внутри камеры находятся также электроды для ионной бомбардировки пластмассы в качестве подготовительной операции перед металлизацией. [43]

Материал покрытия испаряется при невысоком вакууме ( - - 1СГ1 Па); на подложку при этом подается достаточно высокий отрицательный потенциал относительно тигля с испаряемым металлом. Часть паров металла ионизируется в плазме газового разряда, и ионы осаждаются на заряженной подложке, образуя покрытие с высокой степенью однородности по толщине. [44]

Создание в камере давления, не превышающего 10 - 4 мм рт. ст., вызвано тем, что такое давление обеспечивает требуемую длину свободного пробега, которую атомы испаряемого металла должны пройти до конденсации на обрабатываемом изделии, не сталкиваясь с атомами и молекулами остаточного газа камеры. Например, если давление в камере составляет 10 - 2 мм рт. ст., то средняя длина свободного пробега молекулы составляет 0 45 мм, а при давлении 10 - 4 мм рт. ст. - 450 мм. [45]

Страницы: 1 2 3 4 5