Метод - катодное распыление
Cтраница 2
Методом катодного распыления на стекло наносят обычно пленку из серебра или золота. [16]
Методом катодного распыления могут быть получены пленки любого металла, толщина и качество которых регулируются значениями катодного тока и давлением инертного газа. Скорость катодного распыления определяется коэффициентом, или выходом, распыления - отношением количества атомов металла, покидающих катод, к числу бомбардирующих его ионов. Коэффициент распыления зависит от распыляемого металла, энергии и угла падения иона. В установках по катодному распылению предусмотрена возможность предварительной очистки поверхности полупроводника за счет изменения полярности в системе электродов, испарение слоя оксида или тонкого загрязненного поверхностного слоя на удаленный анод осуществляют бомбардировкой поверхности полупроводника положительными ионами. [17]
Большим преимуществом метода катодного распыления является возможность ионной очистки поверхности подложки непосредственно перед осаждением покрытия, его универсальность ( можно получить покрытие с отличной адгезией из любого материала на любой подложке), а также высокая однородность покрытия по толщине. [18]
 |
Автоматический гигрометр. [19] |
Поверхность стекла методом катодного распыления покрывается очень тонким слоем платины. В этом слое поперек пластинки прочерчена канавка шириной от 10 до 50 мк. На краевые области пластинки наложены металлические электроды, позволяющие включать ее в схему электрометрического моста. [20]
Этого недостатка не имеет метод катодного распыления. Он осуществляется за счет распыления катода, изготовленного из нужного материала, атомы которого при вакууме 10 1 н / м2 и напряжении порядка 1 - 3 кв переносятся тлеющим разрядом-на подложку. Подложка крепится перед анодом. Распыление проводится в атмосфере инертного газа. Метод катодного распыления весьма перспективен для распыления сплавов и сильно диссоциирующих соединений, так как на подложке воспроизводится состав сплава без изменения. [21]
Одной из основных разновидностей методов катодного распыления является высокочастотное распыление, которое используется главным образом для получения диэлектрических пленок. Этот метод позволяет нейтрализовать заряд, который накапливается на диэлектрике в результате его бомбардировки ионами, и обеспечить интенсивное распыление диэлектрика. [22]
При нанесении металлической пленки методом катодного распыления вместо нагрева испаряемого металла его бомбардируют ионами инертного газа, чаще всего аргона. Метод катодного распыления осуществляют аналогично рассмотренному ранее методу ионного травления ( см. § 2.7), причем катод-мишень изготовляют из металла, из которого формируется пленка. [23]
Помимо термического испарения широко используется метод катодного распыления, позволяющий получать более высокие скорости испарения, а также метод испарения электронным лучом. [24]
К перспективным методам относятся: метод катодного распыления ( электронная бомбардировка), реактивный метод, метод осаждения пленок ионным пучком. [25]
В каких случаях целесообразно применять метод катодного распыления. [26]
Необходимо отметить еще одно преимущество метода катодного распыления, заключающееся в том, что при его использовании относительно просто решается проблема источников наносимого материала в высокопроизводительном оборудовании. Трудности решения именно этого вопроса не позволили до настоящего времени реализовать практически ни одной надежно действующей установки термовакуумного напыления непрерывного действия, тогда как установки катодного распыления такого типа успешно эксплуатируются в течение ряда лет. [27]
 |
Установка для получения тонких пленок путем катодного распыления. [28] |
Для нанесения тонких металлических пленок методом катодного распыления используется явление разрушения катода в результате его бомбардировки ионизированными молекулами разреженного газа. [29]
Адгезия у пленок, полученных методом катодного распыления, обычно выше, чем у пленок, образованных термовакуумным напылением. [30]
Страницы: 1 2 3 4 5