Нагрев - подложка
Cтраница 3
Нанесение покрытий производят, как правило, при нагреве подложки; это диктуется необходимостью обеспечить прочность сцепления покрытия с подложкой. Тогда при ограниченной растворимости компонентов и быстром охлаждении образуется сплав с неравновесной концентрацией компонентов. При медленном охлаждении, а также при нагреве после быстрого охлаждения в материале покрытия ( сплаве) происходят процессы распада. Они сопровождаются выделением либо избыточного компонента, либо новых фаз. Возникающие при этом напряжения, как правило сжимающие, и существующая преимущественная ориентировка кристаллов в покрытии могут привести к выделению компонента или фазы вдоль определенных направлений в кристаллах. В результате возникает цепочка выделений, которая может быть ошибочно принята за слоистость, образовавшуюся в процессе роста. [31]
При разработке инструментальной техники ЭТА наряду с соответствующим программированием нагрева подложки со скоростью до 3000 К / с, не менее важен выбор материала для конструкции самого атомизатора. Эти материалы должны иметь высокую химическую устойчивость в широком интервале температур, механическую прочность, термическую устойчивость при большом числе быстро протекающих циклов нагрев - охлаждение, минимальную газопроницаемость. Большей части этих требований вполне удовлетворяет графит, причем его прочность при высоких температурах даже возрастает. [32]
Бомбардировка нейтральными и ионизованными атомами инертного газа приводит к нагреву подложки и увеличению подвижно -, сти осаждаемых атомов вблизи ее поверхности. При определенных условиях возможна также и ионная имплантация, которая обусловливает высокую концентрацию инертного газа в осажденном слое. Кроме того, ионная бомбардировка приводит к размешиванию вещества на глубине 1 - 2 нм, изменяя характер границы раздела. [33]
 |
Схема передаточной ультразвуковой сварки. / - волновод. 2 - свариваемые детали. [34] |
Часть энергии, прошедшей через свариваемый материал, может вызывать нагрев подложки, которая, в свою очередь, отдает теплоту свариваемым деталям. Давление, необходимое для сварки, достигается или за счет натяжения пленок, или путем сварки на упругих подложках. [35]
Описанный способ получения пленок из газовой фазы ввязан с необходимостью нагрева подложки до высоких температур. Если при этом в качестве подложки применяется полупроводник с большим количеством примесей, то возможна диффузия примеси из подложки в пленку и получить тонкую пленку с высоким сопротивлением не удается. [36]
 |
Зависимость краевого угла смачивания при контактном взаимодействии железа с графитом марки ГМЗ от содержания углерода в стали. [37] |
Ниже приведены результаты исследования влияния исходного состава сплава, температуры нагрева графитовой подложки, времени выдержки и атмосферы на смачиваемость графита расплавом. [38]
Конструкция аппаратуры зависит от многих факторов, таких, как способ нагрева подложки, ее геометрия и состав, свойства исходных МОС, требования, предъявляемые к получаемым покрытиям. [39]
Величина растягивающих напряжений зависит от температуры подложки - они уменьшаются с нагревом подложки. [40]
Процесс разложения, называемый также пиролизом, может быть высокотемпературным, требующим нагрева подложки до температуры выше 600 С, и низкотемпературным, осуществляемым в диапазоне температур от комнатной до 600 С. При высокой температуре разлагаются галогениды металлов, в частности йодиды. К соединениям, которые разлагаются при низкой температуре, относятся гидриды металлов, карбонилы металлов, сложные карбонильные соединения, основная часть металлоорганических соединений, борогидриды металлов и некоторые из наиболее неустойчивых галогенидов металлов и карбонилгалогенидов. [41]
 |
Зависимость скорости роста пленки от скорости потока водорода. [42] |
Плотность пленки, ее структура и однородность в значительной степени определяются температурой нагрева подложки и точностью ее поддержания. При температуре 1 100 - 1 200 С пленки получаются поликристаллические, либо монокристаллические, но со значительным количеством дефектов роста. Оптимальная температура лежит в пределах 1 250 - 1 270 С. Однородное осаждение пленки может быть достигнуто при отсутствии радиального градиента температуры. Охлаждение камеры водой дает значительный градиент и является нежелательным. [43]
 |
Схема создания кон-такта ультразвуковой сваркой. [44] |
Комбинированный метод термообработки и ультразвуковой сварки ( рис. 19 - 11) включает ультразвуковую сварку и нагрев подложки. [45]
Страницы: 1 2 3 4 5