Нагрев - подложка
Cтраница 4
Непосредственно над каруселью / расположен сферический экран 2 с нихромовыми спиралями, с помощью которых обеспечивается нагрев подложек до 300 - 350 С. Поворот карусели испарителей 3 производится с помощью ручного привода. [46]
 |
Зависимость краевых углов смачивания отвремени термообработки активированных полимеров ( температура термообработки 75 С. [47] |
Представляет интерес сочетание обработки тлеющим разрядом с другими методами активации, из которых наиболее часто применяют нагрев подложки в вакууме и ее хими-ческую обработку. Как самостоятельный метод активации, нагрев в вакууме широко используется перед нанесением покрытий на металлы, стекло и некоторые пластмассы, например, полиимид. [48]
 |
U-образный сосуд. [49] |
В процессе последующего напыления на эту подложку слоя металла никелевый диск нагревается до температуры 650 С; нагрев подложки служит для отжига напыляемой пленки. Кроме того, последняя при этом приобретает необходимую дуктильность. Рекомендуется располагать диск с напыленной на его поверхность пленкой в ванне в наклонном положении ( напыленной пленкой вверх) и постепенно доливать в ванну теплую воду. После того как уровень воды достигнет напыленной пленки, начинает растворяться промежуточный слой соли, а напыленная пленка при этом отделяется от подложки и всплывает на поверхность воды. Если происходит задержка в отделении пленки от подложки, то наполнение ванны водой следует на некоторое время прекратить во избежание появления в пленке внутренних напряжений. [50]
На характер протекания процесса термического разложения МОС и на свойства образующихся покрытий существенное влияние оказывает и способ нагрева подложки. При косвенном нагреве имеется больше возможностей для протекания реакции термораснада в объеме, что в ряде случаев может привести к образованию рыхлых, объемных покрытий. В то же время прямой нагрев создает лучшие условия для протекания процесса непосредственно на поверхности или вблизи подложки. [51]
Необходимой характеристикой материала с защитными покрытиями является его связь с подложкой; в данном случае исследовалось влияние нагрева подложки, шероховатости и создания промежуточных подслоев на прочность сцепления покрытия с основой. Влияние шероховатости на прочность сцепления плазменного покрытия из окиси алюминия с графитовой подложкой в влияние подслоя показаны на рисунке. [52]
 |
Схема подколпачного. [53] |
Подколпачное устройство включает в себя также систему ионной очистки, установленную неподвижно в одной из позиций, систему нагрева подложек, датчики контроля сопротивления и толщины наносимой пленки. С увеличением числа позиций сокращается доля вспомогательного времени откачки, приходящегося на одну подложку. [54]
Приемное устройство снабжено гониометром, обеспечивающим установку мишени под нужным углом к пучку, и печью сопротивления для нагрева подложек в процессе легирования. [55]
При этом отверждение осуществляется за счет превращения УФ-излучения в тепловое в самом окрасочном слое, что значительно снижает энергетические потери на нагрев подложки. Оптимальная длина волны УФ-излучения равна 0 200 - 0 360 мкм. Отверждение УФ-облучением рекомендуется в основном для прозрачных покрытий, однако успешный опыт применения фотохимического способа сушки эмалей создает предпосылки для расширения области его применения. [56]
 |
Схемы однокамерной ( а, двухкамерной ( б трехкамерной ( в и че-тырехкамерной ( г установок металлизации рулонных диэлектрических материалов. [57] |
В последнее время с целью упрощения технологии, а также из экономических соображений стараются исключить этап дегазации за счет сокращения времени нанесения покрытия и предотвращения нагрева подложки в вакууме. Разработаны многокамерные установки, в которых рабочих объем разделен на несколько отсеков с индивидуальной откачкой. В многокамерных установках металлизируют даже материалы с большим содержанием летучих компонентов. На рис. 194 показаны схемы однокамерной и многокамерных установок. Основной барабан, к которому прижимается полоса при металлизации, охлаждается водой. [58]
Наиболее плотные и надежные покрытия при ведении процесса в режиме припекания получаются при наложении колебаний с амплитудой 0.15 - 0.20 мм ( рис. 1) в период нагрева подложки от температуры 768 С ( точка Кюри) до заданной температуры и доследующего охлаждения до 850 С. [59]
Адгезия слоя оксида к подложке практически не зависит от ее температуры, что обусловлено высокой энергией осаждаемых частиц по сравнению с тепловой энергией, сообщаемой им за счет нагрева подложки. При реактивном распылении могут быть получены скорости осаждения до 30 нм / мин. [60]
Страницы: 1 2 3 4 5