Cтраница 4
При нанесении пленки колбу погружали в ледяную воду, испарение проводили в течение примерно 100 мин. [46]
При нанесении пленок предусматривают одновременное их использование в качестве, например, резисторов и обкладок конденсаторов. Полупроводниковые элементы либо просто присоединяют затем к микросхеме; либо формируют на общей с ней подложке. Различные элементы соединяют друг с другом электрически с помощью обладающих низким сопротивлением тонких пленок металла, отложенных на поверхности платы. [47]
При нанесении пленок предусматривают одновременное их использование в качестве, например, резисторов и обкладок конденсаторов. Активные ( полупроводниковые) элементы либо присоединяют затем к микросхеме, либо выполняют на общей с ней пластине. Полученные плоские элементы соединяют между собой с помощью тонких пленок металла, обладающего высокой электропроводностью, отложенных на поверхности пластины. [48]
![]() |
График для смешивания проводящей и изоляционной суспензий резистивной пленки. [49] |
При нанесении пленки необходимо заботиться о поддержании постоянства ее толщины и однородности суспензии. [50]
При нанесении пленок на поверхность стекол, нагретых до 550 - 600 С, стехиометрическое соотношение ахо-мов в 1п2Оз нарушается в сторону избыточного содержания металла. Пленки 1п2Оз при толщине 0 3 - 1 0 мкм прозрачны в видимой области спектра и имеют удельное сопротивление Ю2 - 10 - 3 ом-см. В ИК области спектра, для этих пленок так же, как и для полупроводниковой SnO2, увеличивается отражение длинноволнового излучения. [51]
![]() |
Схема настройки уровня подающих и лаконано-сящих валков. [52] |
При нанесении пленки покрытия необходимо, кроме заданной толщины пленки, обеспечить ее равномерность по всей поверхности пластин. Одна пара наносящих валков не всегда может обеспечить требуемую равномерность толщины пленки, поскольку на толщину пленки влияют разнотолщинность стали, дефекты валков и другие факторы. Поэтому для обеспечения равномерности толщины пленки применяют вторую пару обрезинен-ных валков, установленных после наносящих. Выравнивая толщину пленки по всей поверхности пластин, вторая пара валков в то же время уменьшает утолщение пленки лака, образующееся на поверхности пластины у ее торцовой кромки. [53]
При сухом нанесении пленки полуфабрикат без пемзования поступает на глянце-вальную машину, где покрывается казеиновым глянцем. [54]
При нанесении пленки эластомера вручную используют мягкую волосяную кисть. [55]
При нанесении пленки жидкой фазы статическим способом по окончании испарения растворителя открывают закрытый конец капилляра и продувают колонку инертным газом в течение нескольких часов при температуре испарения жидкой фазы. В это время из колонки удаляются пары растворителя, оставшиеся в газовом объеме ее, и следы растворителя и других летучих компонентов, содержащихся в жидкой фазе. К этой простой операции и сводится окончательная подготовка колонки к работе. После охлаждения колонки в токе инертного газа ей придают форму, требуемую конструкцией хроматографа, и начинают ее эксплуатацию. [56]