Cтраница 2
Для целей нанесения тонких пленок интерес представляют три типа механических насосов: вращательные с масляным уплотнением, двухроторные насосы ( Рутса) и турбомолекулярные насосы. [16]
Защита осуществляется нанесением тонких пленок слабых водных и эта-нольных растворов этих веществ на поверхность эксплуатирующихся конструкций; распылением в замкнутых воздушных пространствах и с ограниченным доступом воздуха составов, содержащих легколетучие вещества с фунгицидными свойствами; введением указанных веществ в растворы для химического и электрохимического полирования поверхностей металлов и нанесения покрытий в условиях производства и ремонта техники; применением средств дополнительной защиты ( пассивирующие растворы, рабоче-консервационные масла, легко снимаемые покрытия, содержащие биоциды); приданием биоцидных свойств растворам для очистки поверхностей ( травящие, обезжиривающие, нейтрализующие растворы и пасты); сочетанием приведенных методов со статической или динамической осушкой воздуха; добавлением биоцидных веществ в состав полимерных материалов ЛК. [17]
Процесс начинается с нанесения тонких пленок на подложку. Плазменно-химическое парофазное осаждение, или осаждение при тлеющем разряде, применяется для кремния, нитрида кремния и диоксида кремния. [18]
Вакуумное оборудование для нанесения тонких пленок так же, как оборудование для откачки ЭВП, может быть разделено на следующие группы: вакуумные установки периодического действия; вакуумные установки непрерывного действия и конвейерные линии непрерывного действия. [19]
Существуют два метода нанесения тонких пленок диэлектриков - физический и химический. [20]
Пленочные датчики изготавливают посредством нанесения тонких пленок на подложку методом вакуумного испарения исходного материала. [21]
Вакуумное напыление применяют для нанесения весьма тонких пленок металлов ( реже диэлектриков) на поверхности деталей, например экраны электроннолучевых трубок. В основном получило распространение термическое распыление, когда навеску металла например, алюминия) помещают в тигель или в вольфрамовую спираль; при нагреве в вакууме металл распыляется и осаждается на поверхности деталей. [22]
Ионное распыление как способ нанесения тонких пленок известен и используется на практике более ста лет, однако только сравнительно недавно этот метод начал серьезно конкурировать с методом вакуумного испарения. Такая задержка в развитии метода ионного распыления и применении его для получения пленок объясняется большей склонностью наносимых этим методом пленок к загрязнению, а также большим числом контролируемых параметров, определяющих процесс осаждедия, и сложностью контроля. За последние годы спрос электронной техники на пленки, получение которых затруднено, или даже невозможно другими способами, стимулировал проведение весьма плодотворных работ, направленных на решение указанных проблем. В настоящее время нанесение пленок методом ионного распыления получает все большее признание не только в электронной технике, но и во всех областях, где могут использоваться тонкие пленки. [23]
Вакуумные методы покрытий применяются для нанесения тонких пленок. [24]
Вакуумные системы современных установок для нанесения тонких пленок состоят из следующих основных узлов: вакуумной рабочей камеры, коммутирующих элементов, средств откачки и средств измерения давления. [25]
Более сложными являются технологические методы нанесения тонких пленок, толщина которых обычно не превышает 5 мкм. К их числу относятся: химическое осаждение из газовой фазы, вакуумное испарение и катодное распыление. На него напыляют тонкую пленку толщиной не более 5 мкм из проводящего материала с высокой электропроводностью, обычно медь. [26]
В оптической, стекольной и фотопромышленности нанесением тонких пленок в вакууме изготовляют высококачественную оптику, оптические к бытовые алюминированные зеркала. [27]
Наиболее благоприятным для снижения градиента температур является нанесение тонкой пленки сплошным слоем на однородную подложку. Это возможно в случае применения фотолитографической технологии с использованием метода селективного химического травления. [28]
Одним из важных факторов, характеризующих процесс нанесения тонких пленок в вакууме, является способ, которым осаждаемый материал нагревается до тем-тературы испарения или возгонки. В зависимости от способа нагрева испарители можно подразделить на ре-зистивные, индукционные и электронные. [29]
В настоящее время известно большое число методов нанесения тонких пленок на подложку. Рассмотрим только те из них, которые получили широкое применение в технологии изготовления тонкопленочных гибридных микросхем: термическое испарение веществ в вакууме, распыление ионной бомбардировкой, химическое осаждение из газовой фазы. [30]