Напыление - пленка
Cтраница 2
 |
Установка для измерения изменения электрического сопротивления и количества адсорбированного газа. [16] |
Чтобы избежать при напылении пленки металла образования кристаллических сростков, пленку конденсируют при низких температурах ( 80 - 90 К), а затем медленно нагревают до комнатной температуры. Так, например, пленка кадмия ( толщиной приблизительно в 50 тц), напыленная при комнатной температуре в высоком вакууме, имеет тусклый серый цвет. Однако если пленку сконденсировать при 90 К, а затем медленно нагреть до комнатной температуры, то получается однородное зеркало с высокой отражательной способностью. [17]
Контакт с эмиттером создается напылением пленки сплава золото-сурьма в вакууме или вплавлением металлической проволоки с электролитически осажденным сплавом на конце. [18]
Для анализа механизмов испарения и напыления пленок был использован метод развертки во времени процесса конденсации испаряемого вещества на последовательно заменяемые подложки. В течение всего времени конденсацию осуществляли параллельно на несменяемую подложку. [19]
 |
Измерение скорости напыления ионизационным манометром. [20] |
Метод позволяет контролировать и скорость напыления пленки. Для управления процессом напыления при таких скоростях применяются автоматические установки, которые контролируют толщину напыляемой пленки, производят запись режимов на самописце и прекращают напыление по достижении заданной толщины посредством включения заслонки. [21]
Хадок [60] разработал квазиравновесную методику напыления пленок PbS на сапфировую подложку, иллюстрируемую фиг. Пленки напылялись с относительно высокой скоростью2) при остаточном давлении ниже 10 - 9 тор. [22]
Метод получения чистой поверхности германия путем напыления пленок [9] также не является надежным, так как при испарении германия может происходить захват пленкой газа, выделяющегося при нагреве. Этот способ заключается в том, что германий расплавляется в водороде, а затем обезгаживается и, испаряясь, осаждается на охлажденной стенке сосуда. [23]
Прямой подогрев с успехом применяют для напыления пленок тугоплавких металлов. Для этого между двумя проводниками создают точечный контакт, через который пропускают ток достаточной величины. В месте контакта образуется перемычка из расплавленного металла, которая является источником испарения. [24]
Прямой подогрев с успехом применяют для напыления пленок тугоплавких металлов. Для этого между двумя проводниками создают точечный контакт, через который пропускают ток достаточной величины. В месте контакта образуется перемычка из расплавленного металла, которая является источником испарения. [25]
В результате коробления маски в процессе напыления пленки между маской и подложкой образуется зазор, приводящий к подпылу. Кроме того, размеры окон в маске при многократном напылении уменьшаются. Все это обусловливает меньшую точность данного метода по сравнению с фотолитографическим. [26]
Ниже приводится ряд экспериментальных результатов по напылению пленок взрывом в вакууме и предлагается качественная модель, объясняющая эти результаты. [27]
Этот метод наиболее широко используется при напылении пленок и подходит для большинства материалов. Исключение составляют тугоплавкие металлы и такие материалы, как окис олова, которая при испарении может разлагаться. Основными проблемами, возникающими при реализации этого метода, является сильная зависимость количества примесей от условий напыления и трудность получения пленки равномерной толщины, имеющей сравнительно большую площадь. Эти проблемы тесно связаны со стоимостью получения пленки, поскольку увеличение стоимости определяется получением зз один технологический цикл пленки большей площади. Глава первая посвящена решению проблемы получения пленки равномерной толщины при осаждении методом напыления в вакууме. Если скорость напыления не слишком высока, то контроль за сопротивлением пленки осуществляется сравнительно легко. В настоящее время уже созданы промышленные установки для осаждения методом напыления в вакууме. [28]
 |
Накопители ЗУ на ТМП. а - залитый компаундом. б - тканный накопитель. [29] |
При изготовлении ЗУ на цилиндрических ТМП подложкой для напыления пленок обычно служит провод из бериллиевой бронзы диаметром 0 1 - 0 2 мм. Напыление пленки толщиной порядка 1 мкм производится при круговом магнитном поле создаваемым током, протекающим по подложке. В результате ось легкого намагничивания совпадает с касательной к силовым линиям поля. В качестве РШ записи и чтения используется подложка. [30]
Страницы: 1 2 3 4 5