Cтраница 4
Режимы плазменного напыления карбида вольфрама с размером частиц 20 - 40 мкм, по данным [375-376], следующие: мощность 20 - 22 кет, дистанция напыления 80 - 120 мм. [46]
Марки и размеры вольфрамовых электродов. [47] |
При плазменном напылении применяют главным образом вольфрамовые электроды, марки которых приведены в табл. 2.10. Чистый вольфрам в качестве катода использовать нецелесообразно, так как он обладает сравнительно высоким значением работы выхода, и для получения требуемой электронной эмиссии его необходимо нагревать до высоких температур, что нередко служит причиной его разрушения. Вследствие этого облегчается ионизация атомов указанных присадок, уменьшается температура столба плазменной дуги в прикатодной области, что в конечном счете способствует улучшению зажигания и повышению стабильности горения сжатой дуги. [48]
При плазменном напылении применяются специальные установки, включающие в себя: плазменную горелку ( плазмотрон), пульт управления, порошковый питатель ( дозатор) и источник питания. [49]
При плазменном напылении воздух помещения может загрязняться металлической пылью, аэрозолями обрабатываемых материалов и окислами азота. Для защиты оператора в этом случае также служат специальные камеры с местным отсосом воздуха. [50]
Схема поста плазменного напыления. [51] |
При плазменном напылении воздух помещения может загрязняться металлической пылью, аэрозолями обрабатываемых материалов и окислами азота. Для защиты оператора также служат специальные камеры с местным отсосом воздуха. [52]
При плазменном напылении расплавленный металл распыляется и наносится на поверхность детали плазмообразующим газом. Плазменное напыление позволяет упростить нанесение на упрочняемые поверхности не только металлических, но и металло-керамических твердых сплавов. [53]
При плазменном напылении переведенный в жидкое состояние материал в виде капель увлекается ионизированным потоком газа, попадает на покрываемую поверхность, растекается и образует покрытие. Поэтому вещества, используемые при плазменном напылении, должны плавиться в факеле без разложения и возгонки. Предохранение напыляемых материалов от окисления достигается экранированием факела кольцевым потоком инертного газа. Но даже в этих условиях многие материалы в процессе плазменного напыления претерпевают изменение химического состава. Изменение состава напыляемого материала может быть вызвано термической диссоциацией, инконгруентным плавлением и др. Наибольшей устойчивостью в ионизированном потоке обладают тугоплавкие окислы и некоторые тугоплавкие металлы. Следует подчеркнуть, что устойчивость веществ в факеле зависит не только от природы напыляемого материала, но также и от состава рабочего газа. Так, например, при напылении титана с помощью ионизированного потока аргона получается покрытие, состоящее из металлического титана. Замена аргона азотом приводит к образованию нитрида титана. [54]
При плазменном напылении, наплавке и прочих процессах обработки дисперсных материалов данный диаметр канала составляет обычно 1 - 5 мм. [55]
При плазменном напылении в соответствии со схемой технологического процесса, представленного на рис. 16, для оптимизации могут быть выбраны следующие наиболее существенные параметры: сила тока /, дистанция напыления / ], расход плазмо-образующего газа G. [56]
Установки для плазменного напыления. [57] |
При плазменном напылении применяют специальные установки, которые включают в себя пульт управления: плазмотрон, порошковый дозатор и источник питания. [58]
При плазменном напылении наиболее вредными для здоровья работающих являются шум, загрязнение воздуха, ультрафиолетовые и инфракрасные излучения. Для защиты оператора от шума рекомендуется покрытия наносить в специальных камерах. [59]
При плазменном напылении воздух помещения может загрязняться металлической пылью, аэрозолями обрабатываемых материалов и окислами азота. Для защиты оператора в этом случае также служат специальные камеры с местным отсосом воздуха. [60]