Рабочий объем - установка
Cтраница 3
В качестве примера на рис. 2 - 7 схематически показана система централизованной предварительной откачки с тремя линиями трубопроводов. Линия А предназначена для первоначальной откачки рабочих объемов установок от атмосферного давления до 1 мм рт. ст. Линия Б предназначена для создания в системе разрежения 5 - 10 - 2 мм рт. ст. При этом давлении могут быть включены паро-масляные насосы. Линия В имеет то же самое предельное разрежение и предназначена для обеспечения бесперебойной работы паро-масляных насосов. Каждая линия откачивается отдельным механическим насосом. Кроме того, имеется запасной насос, который в случае выхода из строя основного насоса может быть подключен к любой линии. [31]
Другим способом получения сверхвысокого вакуума является использование комбинированной откачки. В результате комбинации указанных откачных средств в рабочем объеме установки без применения прогрева удается быстро получить сверхвысокий вакуум. [32]
Рабочий объем установки откачивают до заданного давления с помощью вакуумной системы, состоящей из двух вакуумных агрегатов 1 и 9, присоединенных соответственно к камерам приемника и источника ионов, вакуумных задвижек, фреоновой 8 и азотной 4 ловушек, вакуумной камеры 14 и механических насосов 12 ротационного типа ( два из них рабочих и один запасной), присоединенных к вакуумным агрегатам. Задвижка 6 служит для отключения головки источника от остального рабочего объема установки при смене рабочего вещества и имеет ручной и механизированный приводы. Автоклапаны / / предназначены для автоматического отключения вакуумной системы при внезапном снятии напряжения питания установки. Клапаны 10 имеют ручной привод. [33]
Прочность сцепления пленки с подложкой во многом зависит от наличия окисного слоя, который может возникнуть между пленкой и подложкой. На образование окислов большое влияние оказывает состав остаточных газов в рабочем объеме установки, особенно наличие паров воды. [34]
 |
Схема установки для непрерывного. [35] |
По истечении заданного времени Ат с момента начала натекания краны закрывают, а дьюар и ловушка погружают в сосуд с водой. Накопившаяся в ловушке жидкость размораживается и, вновь обращаясь в пар, заполняет известный рабочий объем Vy установки, в котором измеряется давление паров с помощью жидкостного U-образного манометра. Затем пар из рабочего объема переводится в съемную ловушку, препятствующую его попаданию в откачной пост. [36]
 |
Схема установки для непрерывного. [37] |
По истечении заданного времени Лт с момента начала натекания краны закрывают, а дьюар и ловушка погружают в сосуд с водой. Накопившаяся в ловушке жидкость размораживается и, вновь обращаясь в пар, заполняет известный рабочий объем Vy установки, в котором измеряется давление паров с помощью жидкостного U-образного манометра. Затем пар из рабочего объема переводится в съемную ловушку, препятствующую его попаданию в откачной пост. [38]
Поскольку скорости электронов в тлеющем разряде значительно больше скоростей положительно заряженных ионов, подложка заряжается отрицательно и подвергается интенсивной бомбардировке ионами, которые расщепляют углеводороды, входящие в состав загрязнений. При этом нелетучие компоненты реагируют с кислородом, содержащимся в среде остаточного газа, и в виде окиси углерода удаляются из рабочего объема установки. Таким образом, при очистке подложек тлеющим разрядом происходят - химические реакции, что является достоинством этого метода. Степень ионизации может быть увеличена наложением на разряд высокочастотного поля. Очистка тлеющим разрядом позволяет удалять любые загрязнения, однако она требует длительного времени, и поэтому основную долю загрязнений целесообразно удалять предварительно путем обезжиривания, химического травления и очистки с помощью ультразвука. Наиболее эффективна очистка подложки с помощью комбинации нескольких способов. [39]
При обогащении этим методом более концентрированных продуктов заметно начинают сказываться факторы, снижающие селективность процесса. Но, в основном, снижение селективности связано с загрязнением обогащенного продукта парами фоновой ртути, всегда в той или иной мере, имеющимися в рабочих объемах установки. Это происходит потому, что с ростом концентрации целевого изотопа в исходном сырье приходится снижать на каждом последующем этапе обогащения его подачу в реакционные ячейки. В работе используются лампы примерно одинаковой мощности и при чрезмерной подаче в реакционные ячейки обогащаемого продукта резко возрастают потери ценного сырья. [40]
Причиной возникновения значительных напряжений сжатия при малых скоростях напыления и сравнительно плохом вакууме является окисление пленки, которое становится еще более интенсивным при напуске кислорода, воздуха и паров воды. С целью уменьшения в пленке остаточных деформаций целесообразно производить напыление с большими скоростями и при вакууме не ниже 10 6 мм рт. ст. При этом напряжения растяжения могут быть скомпенсированы напряжениями сжатия, возникающими при напуске в рабочий объем установки атмосферного воздуха. [41]
 |
Установка УВН-2М.| Схема внутрикамерного устройства установки У В Н - Ш. [42] |
На камере размещены два смотровых окна, игольчатый натекатель, и кран для [ впуска воздуха. Вакуумную систему подсоединяют к базовой системе. В случае необходимости в рабочем объеме установки могут быть размещены карусели подложек и масок, электроды ионной очистки, нагреватели подложек и масок и другие элементы технологической оснастки. [43]
Стендовые установки для проведения таких испытаний, как правило, состоят из горелок для сжигания газообразного или жидкого топлива, системы подачи топлива и воздуха, камеры сгорания и специального отсека для размещения образцов, где они могут закрепляться стационарно или в специальных держателях, допускающих быструю смену образцов. Чаще всего испытывают образцы цилиндрической формы, хотя иногда используют образцы аэродинамической формы или какой-либо другой конфигурации. Для получения на поверхности образцов слоя загрязняющего осадка в рабочий объем установки может вводиться соответствующее загрязняющее вещество, например морская вода, либо прямым впрыскиванием в камеру сгорания, либо подмешиванием в топливо. [44]
Для осуществления плазменного анодирования используется процесс окисления поверхности металлической пленки в плазме электрического разряда постоянного тока. Для этой цели между пленкой алюминия, полученной методом термического испарения в вакууме, и катодом создают постоянную разность потенциалов при давлении около 5 W-3 мм рт. ст. В результате между катодом и пленкой алюминия течет ток и поверхность алюминия окисляется, причем скорость образования слоя зависит от напряжения на электродах, и по мере нарастания слоя окисла ток постепенно уменьшается. После того как слой окиси алюминия достигнет нужной толщины, рабочий объем установки откачивается и на слой окиси алюминия путем термического испарения алюминия наносится вторая обкладка конденсатора. [45]
Страницы: 1 2 3 4