Cтраница 4
Из литературных данных [2] известно, что у окиси иттрия при высоких температурах значительно повышается электропроводность, поэтому исследуемый образец был строго отцентрирован относительно нагревателя и отделен от него зазором около 1 5 мм. Для надежной центровки образца относительно нагревателя использовалось специальное приспособление. После монтажа образца воздух из установки откачивался до давления iO - zMM рт. ст. Далее рабочий объем установки заполнялся аргоном марки чистый до давления 1 2 атм. [46]
Такой распад со свободным высвечиванием поглощенного фотона называется спонтанным. В многоступенчатых схемах фотоионизации ( см. рис. 8.2.1) как один из вариантов судьбы возбужденного атома может реализовываться распад на нижние уровни ( волнистая стрелка), связанные лазерным излучением. В этом случае теряется только испущенный в произвольном направлении фотон, а испаренный атом, если он еще находится в рабочем объеме установки, может быть вторично возбужден и затем фотоионизован. [47]
Это объясняется тем, что при частых подъемах колпака его уплотнение не представляет никакой технической трудности. Однако наличие резиновых прокладок не позволяет производить прогрев колпака выше 80 - 100 С, что и ограничивает предельный вакуум установок подобного типа давлением порядка 10 - 6 мм рт. ст. Замена резины на эластомер типа витон позволяет поднять температуру прогрева рабочего объема до 150 - 200 С и получить в рабочем объеме установки более высокий вакуум. [48]
При использовании первого метода ( метода раздельного напыления) маски на воздухе предварительно точно совмещаются с подложками, после чего устанавливаются на подколпачную карусель. После этого рабочий объем установки заполняют воздухом, колпак поднимают, подложки с масками вынимают и производят замену масок. Затем в такой же последовательности, но уже на другой установке и через другие маски на подложки напыляют следующий слой. Таким образом, при напылении каждого следующего слоя необходимо разгерметизировать рабочий объем установки. [49]
Наиболее простым способом очистки подложки после помещения ее в вакуумную камеру является высокотемпературный отжиг. Однако этот способ недостаточно эффективен. Часто для очистки подложки применяется электронная бомбардировка ее поверхности. При использовании этого метода труднее, чем при ионной бомбардировке, предотвратить загрязнение стекла продуктами разложения углеводородов, которые присутствуют в среде остаточных газов при откачке рабочего объема установки. [50]
Нагрев исследуемого образца осуществляется электрической печью с нагревателем в виде спирали, уложенной в пазы керамического каркаса. Печь устроена таким образом, что образец нагревается равномерно со всех сторон; окна в печи служат для прохода прямого и дифрагированного излучения. Установление нужной температуры производится вручную. Для создания вакуума в рабочем объеме установки в ее комплект входит вакуумный пост, включающий в себя форвакуумный и диффузионный насосы и систему вакуумных вентилей для обеспечения работы поста. Предусмотрена возможность исследования крупнозернистых образцов. [51]
Вся установка смонтирована на сварном каркасе, закрытом легкосъемными кожухами. В качестве рабочей камеры установки используется вакуумный колпак объемом 0 12 м3, выполненный из нержавеющей стали. На наружной поверхности колпака имеется змеевик, предназначенный для охлаждения и прогрева его соответственно холодной или горячей водой. Подъем колпака осуществляется при помощи гидравлического механизма; вакуумношютное соединение основания колпака с базовой плитой достигается с помощью резиновой прокладки. На колпаке размещены два смотровых окна, игольчатый натекатель и кран для напуска воздуха. На базовой плите размещены карусель испарителей на пять позиций, заслонка с электромагнитным приводом и высоковольтный ввод. К базовой плите подсоединяется откачная вакуумная система. В случае необходимости в рабочем объеме установки могут быть размещены карусели подложек и масок, электроды ионной очистки, нагреватели подложек и др. Для этой цели на колпаке предусмотрены подсоединительные фланцы, а на базовой плите - резьбовые гнезда для крепления стоек. [52]