Высокотемпературный пик

Cтраница 2

Таким образом, в фосфорах с большой концентрацией активатора полностью отсутствует высокотемпературный пик, обусловленный термически высвобождаемыми электронами с / - - центров. Кривая термического высвечивания фосфоров NaCl - Ag с малой концентрацией активатора состоит из трех пиков ( рис. 104 и 105), из которых наиболее высокотемпературный обусловлен F-центрами. [16]

Однако увеличение ( до 40 %) теплоты плавления при отжиге было обусловлено увеличением площади одного низкотемпературного пика, в то время как площадь высокотемпературного пика становилась меньше. Поскольку длина складки в исходном кристалле резко уменьшалась при увеличении содержания синдиотактических звеньев в цепи, указанное противоречие могло быть вызвано различной длиной складки, а не влиянием тактичности цепи. [17]

На термограмме этого образца, снятой методом сканирующей калориметрии при скорости нагревания 20 град / мин присутствовали очень маленький низкотемпературный пик плавления при 205 С ( 2 % общей теплоты плавления) и большой высокотемпературный пик плавления в области 220 - 222 С. Наиболее хорошо закристаллизованный образец получали при скорости охлаждения 5 град / мин ( Ткр 190), и на термограмме этого образца, снятой в аналогичных условиях, наблюдали значительный температурный пик плавления при 216 С ( 51 % общей теплоты плавления) и высокотемпературный пик плавления, расположенный при тех же условиях, что и высокотемпературный пик плавления быстро охлажденного образца. [18]

Термическое высвечивание незасвеченного ( а и засвеченного ( в кристалла NaCl, рентгенизованного при низкой температуре. 6 - между кристаллом и счетчиком фильтр с областью пропускания 2700А0. [19]

При облучении кристалла красным светом в течение продолжительного времени, например, вплоть до полного исчезнования первого пика, можно обнаружить некоторое возрастание световой суммы и интенсивности свечения во втором пике кривой термического высвечивания, что свидетельствует о переходе под действием красного света части электронов с менее глубоких уровней, обусловливающих первый пик, на более глубокие уровни, ответственные за второй, более высокотемпературный пик. [20]

Кривая ДТА для вещества, отверждавшегося в течение 24 час при 80, показывает, что отверждение полиэфира почти полное, хотя и в этом случае проявляется довольно заметный низкотемпературный пик. Высокотемпературный пик меняется относительно мало, что указывает на неполноту отверждения триаллилцианурата и при такой термической обработке. Обработка полимера при 180 приводит к завершению низкотемпературного-отверждения и существенно повышает степень высокотемпературного отверждения. [21]

Зависимость температур пиков плавления кристаллов полиэтилена. [22]

Кристаллы выращены из транс-декалина при 100 С. Высокотемпературный пик уменьшается по размеру относительно низкотемпературного пика при увеличении скорости нагревание. [23]

Зависимость тока термодеполяризации ПЭТФ от температуры в области Г с Для разных режимов поляризации ( при разной кристалличности образцов. [24]

С, проявляющийся обычно в виде уступа. Высокотемпературный пик с увеличением степени кристалличности несколько смещается в сторону более высоких температур. Низкотемпературный пик ( при - 60 С), наоборот, несколько смещается в сторону более низких температур. [25]

В ориентированном кристаллическом состоянии, очевидно, наблюдается уменьшение диэлектрических потерь во всем интервале температур. Высокотемпературный пик сдвигается на 15 - 20 С, а пик, связанный с ориентацией, отделяется от высокотемпературного пика и становится более резко выраженным. [26]

Смещение высокотемпературного пика tg б в сторону низких температур в образцах, отожженных при 130 и 160 С, подтверждает этот вывод. [27]

Наличие высокотемпературного пика объясняется подвижностью молекулярных сегментов большого размера в переменном электрическом поле. Подвижность молекул, обусловливающая появление высокотемпературных пиков на кривых зависимости tg б от температуры, является причиной, вызывающей изменение различных физических свойств при температуре стеклования. [28]

Термическое высвечивание в видимой области фосфора NaCl 0 003 мол. % РЬС12. [29]

В фосфорах с малой концентрацией активатора наблюдаются три основных пика: при температурах 55, 136 и 192 С. При увеличении концентрации активатора на два порядка исчезает самый высокотемпературный пик, обусловленный F-центрами. [30]

Страницы: 1 2 3 4 5