Высокотемпературный пик

Cтраница 4

Кристаллы изотактического полибутена-1, выращенные из разбавленного раствора в амилацетате, имеют метастабильную орторомби-ческую структуру ( кристаллическая форма III, см. разд. Были обнаружены три пика плавления. Самый высокотемпературный пик при 106 - 113 С быстро уменьшается при увеличении скорости нагревания и при облучении полимера перед нагреванием. [46]

Второй эндотермический пик - при Т2 - может соответствовать переходу к другому типу жидкокристаллической структуры, возможно к нематической ЖКС. Такого рода переходы, как правило, имеют малую энтальпию, и в наших исследованиях энтальпия этого перехода оказалась в 6 - 7 раз меньше энтальпии низкотемпературного перехода. Третий - высокотемпературный пик при 7 3 отражает процесс термодеструкции ( разложения) ПТФЭ. Температурный интервал ДТ Г3 - Т определяет температурную область возможного существования ЖКС. [47]

Второй эндотермический пик - при Г2 - может соответствовать переходу к другому типу жидкокристаллической структуры, возможно к нематической ЖКС. Такого рода переходы, как правило, имеют малую энтальпию, и в наших исследованиях энтальпия этого перехода оказалась в 6 - 7 раз меньше энтальпии низкотемпературного перехода. Третий - высокотемпературный пик при Г3 отражает процесс термодеструкции ( разложения) ПТФЭ. Tt определяет температурную область возможного существования ЖКС. [48]

Это позволяет отнести н кзкотемпературный пик плавления к плавлению лишь незначительно усовершенствовавшихся кристаллов. Таким образом, высокотемпературный пик, по-видимому, соответствует плавлению в основном тех кристаллов, толщина которых увеличилась приблизительно в два раза. [49]

Следующий пик плавления обусловлен плавлением основных крис-аллов, образовавшихся при первичной кристаллизации. Увеличение скорое-и нагревания приводит к некоторому увеличению температуры пика давления, но только при скоростях нагревания выше 16 град / мин, [ лощадь пика резко увеличивается при увеличении скорости нагре-ания, хотя общая теплота плавления остается приблизительно пос-оянной. Это означает, что следующий высокотемпературный пик давления уменьшается во столько же раз, во сколько увеличивает-я этот пик плавления. При отжиге при температурах выше температу-ы второго пика последний полностью превращается в высокотемпе - атурный пик. [50]

Кривые плавления чистого полихлоропрена типа наирит НП или его вулканизата, полученные с помощью метода ДТА25, имеют один пик. Для систем, содержащих сажу, характерно появление двойного пика плавления, что свидетельствует о наличии в системе кристаллических структур двух типов: более упорядоченной, которая дает пик при более высокой температуре, и менее упорядоченной. При увеличении содержания наполнителя в смеси интенсивность высокотемпературного пика увеличивается, поскольку основная масса кристаллов образуется в условиях ориентации. [51]

При изучении кислотных свойств ВКЦ, полученных с использованием ГМДА, методом термодесорбции аммиака и пиридина показано, что на ВКЦ имеется два типа кислотных центров. На термодесорбционной ( ТД) кривой аммиака, адсорбированного при 298 К, наблюдаются два пика: низкотемпературный с температурой максимума ( Т пах) пика 603 К и высокотемпературный пик с Гтах 793 К. При увеличении Таяс низкотемпературный пик исчезает, Гтах высокотемпературного пика смещается в сторону высоких температур и при Таяс 673 К аммиак выходит с TmayL пика 1023 К. При этом суммарная концентрация кислотных центров, определенная по количеству десорбированного аммиака, уменьшается от 0 892 до 0 05 ммоль / г. Эти данные указывают на то, что как слабокислотные, так и сильнокислотные центры ВКЦ не являются однородными, а характеризуются широким набором центров, отличающихся по своей кислотной силе. [52]

При изучении кислотных свойств ВКЦ, полученных с использованием ГМДА, методом термодесорбции аммиака и пиридина показано, что на ВКЦ имеется два типа кислотных центров. На термодесорбционной ( ТД) кривой аммиака, адсорбированного при 298 К, наблюдаются два пика: низкотемпературный с температурой максимума ( Гтах) пика 603 К и высокотемпературный пик с Гтах 793 К. При увеличении Таяс низкотемпературный пик исчезает, Гшах высокотемпературного пика смещается в сторону высоких температур и при Гадс 673 К аммиак выходит с Гтах пика 1023 К. При этом суммарная концентрация кислотных центров, определенная по количеству десорбированного аммиака, уменьшается от 0 892 до 0 05 ммоль / г. Эти данные указывают на то, что как слабокислотные, так и сильнокислотные центры ВКЦ не являются однородными, а характеризуются широким набором центров, отличающихся по своей кислотной силе. [53]

Зависимость удельного объема У д ( 1. [54]

При этом низкотемпературный пик связывают с плавлением Р -, а высокотемпературный - а-модификации кристаллов пентапласта. При многократном повышении и снижении температуры среднее положение пика смещается в сторону высокотемпературного пика, что объясняют сокращением числа кристаллов р-формы. Температура плавления, определенная термомеханическим методом, составляет 177 - 179 С. [55]

Кривые термовысвечивания ZnS-Cu - фосфора при различной продолжительности возбуждения ( интенсивность возбуждающего излучения одинакова по данным. [56]

Как уже указывалось, электроны имеют тенденцию переходить из мелких ловушек в более глубокие. Как видно из рис. 32, при увеличении продолжительности возбуждения люминофора увеличивается отношение интенсивности низкотемпературного пика, отвечающего более мелким ловушкам, к интенсивности высокотемпературного пика. Это объясняется тем, что глубокие ловушки заполняются быстрее, чем мелкие. Аналогичный процесс миграции дырок от одних центров свечения к другим с более глубоким расположением основного уровня приводит к изменению цвета свечения в процессе термовысвечивания. Поскольку при термолюминесценции произведение концентрации ионизованных центров свечения NA на концентрацию электронов в зоне проводимости п мало вследствие малой величины п, то процесс перехода дырок от одних центров к другим происходит при более низких температурах, чем это имеет место в процессе возбуждения. [57]

Было установлено, что в исследованных образцах отсутствовала такая же отличающаяся ильным перегревом фракция, какая существует в кристаллах типа шиш-кебаб, получаемых кристаллизацией из раствора при перемешивании. Длительное травление этих чрезвычайно устойчивых к нему образцов приводило к появлению пика приблизительно при 132 С, и это сопровождалось соответствующим уменьшением площади высокотемпературного пика плавления. Возможно, что, как и для вытянутых волокон [ 155] и кристаллов типа шиш-кебаб, полученных кристаллизацией при низких температурах из растворов при перемешивании [128], и в этом случае причиной существования высокотемпературного пика плавления явилось ( установленное. [58]

Как аммиак, так и пиридин при низких температурах адсорбируются на двух типах кислотных центров. С повышением температуры адсорбции количество адсорбированного аммиака уменьшается и уже при Гадс 473 К на ТД-кривой аммиака наблюдается только один пик, Гшах которого смещается в область высоких температур с повышением Гаде - Аналогичная картина наблюдается и при адсорбции пиридина, хотя низкотемпературный пик на ТД-кривых сохраняется при более высоких Талс по сравнению с аммиаком, а Гтах высокотемпературного пика сдвинут в область высоких температур. Такое различие в ТД-епектрах аммиака и пиридина обусловлено, по-видимому, как силой их основности, так и разным местонахождением кислотных центров в ВКЦ. На довольно широкий спектр сильных кислотных центров в ВКЦ указывает и большая ширина высокотемпературного пика, а также сдвиг Гтах с изменением Гадс. [59]

На термограмме этого образца, снятой методом сканирующей калориметрии при скорости нагревания 20 град / мин присутствовали очень маленький низкотемпературный пик плавления при 205 С ( 2 % общей теплоты плавления) и большой высокотемпературный пик плавления в области 220 - 222 С. Наиболее хорошо закристаллизованный образец получали при скорости охлаждения 5 град / мин ( Ткр 190), и на термограмме этого образца, снятой в аналогичных условиях, наблюдали значительный температурный пик плавления при 216 С ( 51 % общей теплоты плавления) и высокотемпературный пик плавления, расположенный при тех же условиях, что и высокотемпературный пик плавления быстро охлажденного образца. Это свидетельствовало о том, что только низкотемпературный пик отвечает плавлению кристаллов, присутствовавших в образце до анализа. Высокотемпературный пик оказался обусловлен плавлением кристаллов, усовершенствовавшихся в процессе нагревания. Авторы работы [ 97] рассчитали, что для плавления кристаллов, полученных при скорости охлаждения 20 град / мин, с нулевым производством энтропии необходима, по-видимому, скорость нагревания 200 град / мин. [60]

Страницы: 1 2 3 4 5