Пирамида - рост - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 4
Если тебе трудно грызть гранит науки - попробуй пососать. Законы Мерфи (еще...)

Пирамида - рост

Cтраница 4


46 Зависимость скорости роста слоев арсенида галлия от температуры галлия ( ТПодл 775 С. [ АвС ] 3 ] о2 - 10 - з атм. Я200 см3 / мин.| Зависимость скорости роста слоев арсенида галлия от входного давления треххлористо-го мышьяка ( Тоа 850 С, ТПодл 775 С. Я200.| Зависимость скоро стн роста слоев арсенида галлия от расхода водорода ( Тс. - А 850 С. Тпоял - 775 С. [ AsC ] 3 ] o2 - 10 - 3 атм. [46]

Рекомендованное рядом авторов [5, 6] травление подложки при температуре, превышающей на 10 - 20 рабочую температуру галлия, приводит к образованию неровной матовой поверхности подложки, хотя плотность пирамид роста несколько снижается. При наращивании пленок на такую подложку искривляется граница раздела подложка - слой. Более эффективным оказалось травление подложки, когда температура галлия снижалась на 10 - 20 ниже температуры подложки.  [47]

48 Изменение скорости роста GaP на GaAs в зависимости от температуры источника при давлении НС1 240 мм рт. ст. [48]

Ровные гладкие пленки ZnSe кристаллизуются при низких скоростях потока HG1 ( УНШ 1 см3 / мин), а при уНа 11 5 см3 / мин на поверхности образуются ориентированные пирамиды роста.  [49]

Эффект аномального плеохроизма дымчатой окраски в пирамидах г кристаллов синтетического кварца был обнаружен Л. И. Цинобером в 1961 г. В том же году А. В. Шубников опубликовал работу о симметрии и физических свойствах пирамид роста.  [50]

При разделке кристаллов, полученных на таких затравках на заготовки пьезоэлементов ( в отличие от пьезокварца, производимого рядом зарубежных фирм на стержневых г / - затравках), исключается возможность попадания в резонаторы участков пирамид роста три-гональных призм, содержащих примеси А1 и Na, что гарантирует высокое качество пьезоэлементов, производимых в массовых масштабах из практически монопирамидального однородного кристаллического материала.  [51]

52 Зависимость плотности дефектов упаковки от условий роста ( скорость роста изменяли, регулируя концен - подложки. Вместе с тем, как и при росте. [52]

Нотис и Конрад [65] отмечают, что при скорости роста около 0 1 мк / мин дефекты упаковки практически отсутствуют, тогда как при ур 1 мк / мин, наряду с увеличением числа дефектов упаковки, образуются также пирамиды роста.  [53]



Страницы:      1    2    3    4