Плазма - тлеющий разряд
Cтраница 3
В рабочей камере установки расположены электроды для создания и поддержания плазмы тлеющего разряда, держатели мишени распыляемого материала и подложек. Для получения гидрогенизированного аморфного кремния устанавливают на держатель мишень из кристаллического кремния, откачивают рабочую камеру, а затем заполняют ее смесью аргона и водорода до давления 1 3 - 0 1 Па. При подаче напряжения на электроды между ними возникает тлеющий разряд, газ ионизируется и его ионы под действием электрического поля бомбардируют мишень. [31]
Разложение ЭОС может быть осуществлено также в вакууме или в плазме тлеющего разряда. В последнем случае температура подложек может быть ниже, чем при пиролизе в вакууме или инертной среде. [33]
По-иному обстоит дело в относительно холодной неизотермической плазме, например плазме тлеющего разряда, в которой температура электронного газа более или менее значительно превышает температуру молекулярную. Здесь концентрации тех или иных частиц, из которых некоторые могут быть химически активными, определяются не термодинамическим равновесием, а стационарным состоянием, возникающим вследствие конкуренции различных процессов образования расходования частиц. Поэтому в зависимости от соотношения скоростей противоположно направленных процессов концентрации как первично активных частиц, так и конкретных продуктов енутри самой плазмы могут существенно отличаться от термодинамически равновесных и, в частности, значительно превышать последние. В этом случае уместно говорить о специфической электрической активации реакций; о ней собственно и будет идти речь в настоящем параграфе. [34]
Ионное азотирование и цементация - это процесс нанесения диффузионных покрытий в плазме тлеющего разряда. Достигается активизация процессов в газовой среде и соответственно сокращается в 2 - 3 раза продолжительность азотирования и цементации при повышении качества покрытия. [35]
В ряде работ отмечено, что полимерные пленки, полученные в плазме тлеющего разряда, подвергались окислению в атмосфере воздуха JJ. Однако механизм окисления до сих пор не был выяснен. [36]
В ряде отраслей промышленности используют ионное азотирование, ионитрирование или азотирование в плазме тлеющего разряда. Благодаря своим преимуществам эти виды азотирования постепенно вытесняют газовое азотирование. [37]
 |
Скема установки для ионного азотирования. [38] |
На рис. 49 приведена схема процессов, имеющих место при азотировании в плазме тлеющего разряда. [39]
Благодаря высокой химической активности ионов и возбужденных атомов, которые легко создавать в плазме тлеющего разряда при постоянном токе или высокочастотном разряде, можно получать тонкие пленки карбидов, н итридов, оксидов, гидридов, сульфидов, арсенидов и фосфидов. С этой целью в плазму инертного газа вводят реакционноспособный газ. В зависимости от давления и химической активности взаимодействующих частиц, свойств подложки и температурных условий химическая реакция происходит на катоде, в плазме или у анода. Состав пленок, получаемых этим методом, зависит от особенностей кинетики плазмы и термодинамических параметров протекающих процессов. [40]
Настоящая работа посвящена систематическому измерению концентрации электронов, положительных и отрицательных ионов в плазме тлеющего разряда в СО2 и Н2О при давлениях 0 1 - 10 тор и токах 1 - 5 ма. [41]
 |
Индуктивная ( а и емкостная ( б схемы нанесения пленок аморфного кремния a - Si. Н разложением силана в тлеющем разряде. [42] |
В настоящее время пленки гидрогенизированного аморфного кремния в основном получают разложением сила на в плазме тлеющего разряда. Подложки, на которые необходимо нанести пленки гидрогенизированного аморфного кремния, размещают в рабочей камере и пропускают через нее со скоростью от 0 1 до 30 см3 / мин смесь газообразного силана с водородом, возбуждая и поддерживая с помощью электромагнитного поля тлеющий газовый разряд. Разложение молекул силана на атомы водорода и кремния, осаждаемые на подложки, происходит в плазме тлеющего разряда. В зависимости от способа возбуждения тлеющего разряда различают несколько типов установок нанесения пленок аморфного кремния. [43]
В специальных установках все поверхности обрабатываемых деталей ( катодов) бомбардируются иона ми диффундирующих элементов в плазме тлеющего разряда, в результате чего происходит очистка, разогрев и диффузионное насыщение деталей. [44]
Существенным отличием исследованных типов разрядов от известных в литературе [1-5] является то, что импульсы накладывались на неравновесную плазму тлеющего разряда при тщательно охлаждаемых проточной водой электродах. Как показало спектроскопическое исследование такого рода импульсных разрядов, в их спектрах не только отсутствуют атомные линии материала электродов, - но и полностью сохраняется вращательная структура полосатого спектра. [45]
Страницы: 1 2 3 4