Пленка - нитрид
Cтраница 2
На рис. 5.14 приведена последовательность операций при создании тонкопленочных резисторов: а - нанесение пленки нитрида тантала; б - нанесение маски из фоторезиста; в - травление пленки нитрида тантала; г - удаление фоторезиста; д - нанесение маски из фоторезиста и вскрытие областей анодирования; е - анодирование нитрида тантала; ж - удаление фоторезиста; з - напыление слоя хрома и золота; и - нанесение маски из фоторезиста; к - вскрытие областей контактов; л - осаждение золота на области контактов; м - удаление фото -, резиста и травление слоя хрома и золота. [16]
 |
Спиральное сверло, оснащенное режущей вставкой из СТМ. [17] |
С целью повышения стойкости инструмента режущие кромки сверла покрываются износостойким упрочняющим покрытием в виде пленки нитрида тугоплавкого металла ( титана, молибдена и др.) толщиной 2 - 10 мкм. [18]
 |
Участок диаграммы состояния системы Y-О в области богатых иттрием сплавов. [19] |
Оз с более низким содержанием кислорода по сравнению со стехиометри-ческим и прилегающая непосредственно к металлу пленка нитрида иттрия. [20]
Так как тут происходит то же, что и при окислении алюминия - покрытие поверхности тонкой непроницаемой пленкой нитрида, то нагревание и охлаждение приходится повторять несколько раз. [21]
Термическая обработка в чистой азотной атмосфере практически не изменяет прочность, но ухудшает пластичность вследствие образования пленки нитридов. Поэтому целесообразно в зависимости от сплава снимать поверхностный слой на глубину 0 1 - 0 3 мм. [22]
Скорость реакции (7.30) контролируется температурой и парциальными давлениями TiCl4 и NHr Чем выше давление и температура, тем больше скорость осаждения пленки нитрида титана. Степень конформности покрытия топологического рельефа зависит от давления и отношения расходов TiCl4 / NH3 и почти не зависит от температуры. Отношение расходов TiCl / NHj также управляет свойствами осаждаемых пленок TIN. Большее содержание NH3 в газовой смеси снижает содержание атомов хлора в пленках нитрида титана, их удельное сопротивление и уменьшает степень конформности покрытия топологического рельефа. [23]
Технический прогресс в области приборостроения тесно связан с использованием при микроминиатюризации электронной аппаратуры тонких слоев полупроводников Ge, Si и GaAs, пленок нитридов, силицидов и окислов и интенсивным применением методов вакуумной, диффузионной и химической технологии. [24]
Процесс LP LT CVD TIN ( TiCl4 - Ar / NH3 - N2) протекает при температурах в диапазоне 500 - 650 С и обеспечивает осаждение пленок нитрида титана с хорошими электрофизическими свойствами ( удельное сопротивление меньше 200 мкОм см, содержание атомов хлора меньше 2 0 ат. Поэтому он хорошо подходит для осаждения слоев TIN в глубокие контакты, но не подходит для формирования межсоединений в ИМС с многослойными системами алюминиевой металлизации, которая не выдерживает Т 500 С длительное время. [25]
На рис. 5.14 приведена последовательность операций при создании тонкопленочных резисторов: а - нанесение пленки нитрида тантала; б - нанесение маски из фоторезиста; в - травление пленки нитрида тантала; г - удаление фоторезиста; д - нанесение маски из фоторезиста и вскрытие областей анодирования; е - анодирование нитрида тантала; ж - удаление фоторезиста; з - напыление слоя хрома и золота; и - нанесение маски из фоторезиста; к - вскрытие областей контактов; л - осаждение золота на области контактов; м - удаление фото -, резиста и травление слоя хрома и золота. [26]
Пленка нитрида, получаемая преимущественно на специальных сталях для азотизации, содержащих алюминий, хром и часто молибден, первоначально нашла распространение как обеспечивающая высокую поверхностную твердость, а не как средство увеличения коррозионной стойкости. Действительно, по крайней мере для некоторых сталей коррозия в кислотах увеличивается при азотизации, как указано Жил-летом и Белли 3, однако сопротивление коррозии при погружении в соленую воду, в многие пресные воды и в условиях обычной атмосферы несколько улучшается, а сопротивление коррозионной усталости в значительной степени возрастает. Полученные пределы коррозионной усталости соответствуют испытаниям, проводившимся при 1 7 108 циклах в речной воде. [27]
При деформации микрообъемов, в том числе тонких пленок, ряд хрупких соединений проявляет заметную пластичность. Пленки нитрида титана выдерживают без разрушения растягивающую деформацию растяжения, на порядок превышающую соответствующие значения для массивного материала. [28]
 |
Окисляемость жаро - тана. Отмечается более высокое окис-прочного титанового сплаваВТв ние титана в водяных парах. [29] |
Скорость взаимодействия титана с азотом значительно ниже скорости реакции окисления кислородом. Однако пленка нитрида титана не является защитным покрытием, поскольку титан активно взаимодействует с кислородом при 1200 С. [30]
Страницы: 1 2 3 4