Пленка - висмут
Cтраница 1
Пленка висмута используется для создания болометров, радиационных термоэлементов и фотокатодов. [1]
Удельное сопротивление пленок висмута зависит от условий их осаждения. Так, пленки, осажденные на нагретые до 120 - 140 стеклянные пластинки, имели более низкое удельное сопротивление и более высокий температурный коэфициент электросопротивления, чем пленки, осажденные на нагретые или охлажденные пластинки, а также обнаруживали более резкое изменение электросопротивления при изменении магнитного поля, Б котором измерялось электросопротивление. [2]
 |
Примеры анодов. [3] |
У висмуто-серебряно-цезиевых катодов пленка висмута, окисленная электрическим разрядом в кислороде, покрывается тонким слоем серебра, который затем подвергается действию паров цезия. [4]
В результате этого можно обнаружить значительные различия удельного сопротивления пленок висмута, зависящие от температуры конденсации этих пленок. [5]
Аналогичные эффекты наблюдались Драмхеллером [39], который получил данные по инфракрасному отражению пленок висмута и скоррелировал их с электропроводностью. Это представляет один из редких случаев, когда рассеяние электронов по границам зерен имеет очень важное значение. Согласно Драмхеллеру границы зерен в полученных им пленках разделяются на две категории, в зависимости оттого, как они разделяют кристал-литы: с одинаковой или разной ориентацией. Примерно половина границ зерен имела среднее шунтирующее сопротивление, приблизительно равное половине сопротивления при постоянном токе, когда как границы зерен не обладали заметным эффектом. [6]
 |
Режим отжига медно-серебря-ных сплавов различных композиций. [7] |
Такое явление фактически наблюдалось в ряде металлов. Например, пленки висмута, осажденные при температуре 2 К, по мере медленного повышения температуры до 300 К имели максимум удельного сопротивления приблизительно при 80 К. С этой температуры при дальнейшей термообработке удельное сопротивление уменьшается. Аналогичная, но более сложная картина наблюдалась на галлиевых пленках. [8]
Соединение MnBi очень хрупко, но материал может обрабатываться сверлением; возможность его шлифования изучена пока еще недостаточно. Магниты имеют пленку висмута, облегчающую их пайку. [9]
Так, в [56] исследуемые пленки висмута толщиной 20 - 160 нм были разделены прослойками моноокиси германия толщиной 2 - 3 нм. Недостатком методик [55, 56] является возможное несоответствие структуры исследуемого материала в многослойной структуре и в одиночной пленке на подложке, а также возможность присутствия размерных эффектов в многослойных структурах. [10]
Так, в [56] исследуемые пленки висмута толщиной 20 - 160 нм были разделены прослойками моноокиси германия толщиной 2 - 3 нм. Недостатком методик [55, 56] является возможное несоответствие структуры исследуемого материала в многослойной структуре и в одиночной пленке на подложке, а также возможность присутствия размерных эффектов в многослойных структурах. [11]
МС представляет собой структуру, состоящую из прозра ной подложки и нанесенных на нее поглощающей пленки и слоя жидкости. Структура помещается в кювету с окошком, которая герметизируется. Управляющий сигнал ( изображение) проецируется через подложку на поглощающий слой, в качестве которого была использована пленка висмута. Модулируемый пучок ( обычно в видимом диапазоне длин волн) проходит через окошко кюветы и отражается or поглощающей ИК-излучение металлической пленки-экрана. Поскольку деформация слоя связана с наличием градиентов температуры на поверхности, то рельеф воспроизводит только контуры изображения. Это, конечно, сужает области применения устройства. [12]
У платиновых пленок они были выше, чему пленок хрома, но более чувствительны к изменениям температуры. Мембрана жестко закреплялась на краях, так что смещение центральной части при изменении давления газа создавало противоположные по чнаку поперечные деформации плеч моста и, следовательно, на выходе появлялся сигнал. Были также исследованы обычные тензодатчики [51], состоящие из последовательно соединенных зигзагообразных пленок висмута толщиной 0 5 - 1 мкм, используемых в качестве пьезосопротивлений и расположенных таким образом, что одноосные деформации вызывали как продольные, так и поперечные деформации в пленках Bi. Такое расположение было выбрано для того, чтобы нежелательные случайные эффекты взаимно уничтожались. [13]
Для зеркального отражения волн необходимо, чтобы шероховатости были малы по сравнению с длиной волны. В металлах длина волны Бройля для электронов на поверхности Ферми V 1nlkp составляет величину порядка одного межатомного расстояния. Следовательно, даже самое тщательное приготовление макроскопически плоской поверхности оказывается неудовлетворительным в свете столь жесткого требования. Интересно, однако, заметить, что зеркальное отражение наблюдалось в тонких совершенных пленках висмута. Это объясняется крайне малым числом электронов проводимости в этом полуметалле. Действительно, величина kp в висмуте мала и KF составляет несколько сотен межатомных расстояний. [14]
Страницы: 1