Cтраница 3
Для вычисления удельных поверхностей по определенным емкостям монослоев в соответствии с формулой ( 3) необходимо знать молекулярные площадки для адсорбируемых веществ. Для молекул простых веществ, форма которых не очень существенно отличается от сферической, обычно принимают, что адсорбированные молекулы имеют наиболее компактную гексагональную упаковку, как в объемных твердых или жидких фазах. [31]
Поскольку ничего не известно о степени заполнения поверхности и толщине адсорбированного слоя, то принимаемые для расчета величины молекулярных площадок со носят еще более формальный характер, чем при адсорбции газов. [32]
Анализируя условия надежного определения удельных поверхностей адсорбентов мезопористого типа, Неймарк в своей работе обращает внимание на выбор рациональной молекулярной площадки адсорбата. [33]
В 2 - количество прочно сорбирующихся на поверхности катализатора продуктов крекинга; N - число Авогадро; SB - молекулярная площадка В2; 5кат - поверхность катализатора. [34]
При использовании газов, когда имеют дело с одним веществом, можно теоретически установить условия образования монослоя; величина молекулярной площадки может быть вычислена из различных моделей молекулы; ориентация молекулы на поверхности и ее подвижность определяются, в основном, энергией адсорбционных взаимодействий и взаимодействиями между молекулами адсорбата. [35]
Так как величина удельной поверхности S - amNu0 при модифицировании мало изменяется, то формальным следствием является резкое возрастание молекулярных площадок со0 адсорбата. [36]
Следовательно, для веществ, адсорбция которых происходит в результате дисперсионного взаимодействия ( азот, аргон, криптон), молекулярная площадка адсорбата в монослое изменяется сравнительно мало. Для молекул с неоднородным распределением электронной плотности значение со сильно возрастает по мере увеличения степени химического модифицирования поверхности. [37]
Так как величина удельной поверхности S - amNo) 0 при модифицировании мало изменяется, то формальным следствием является резкое возрастание молекулярных площадок ю0 адсорбата. [38]
Описанные ниже методы основаны на применении разных адсорбатов при разных температурах и отличаются лишь выбором критерия заполнения монослоя и способом расчета молекулярных площадок. [39]
Грег [15] рассматривает адсорбционный слой при заполнении ниже монослойного как двумерный газ, однако из-за трудностей, связанных с выбором подходящих значений эффективной молекулярной площадки, точность определения удельной поверхности ( при сравнении с методом БЭТ) оказалось небольшой. [40]
Хотя метод требует много экспериментальных данных, он позволяет в принципе определять величину поверхности независимо от значений таких неопределенных величин, как емкость монослоя и молекулярная площадка. [41]
Уменьшение адсорбции азота, криптона и других адсорбатов на единицу поверхности модифицированных адсорбентов [6, 14] указывает, что принятое ранее при расчете удельных поверхностей адсорбентов допущение о постоянстве молекулярных площадок адсорбата неверно. На таких адсорбентах не размеры молекулы адсорбата определяют величину молекулярной площадки, а топография самой химической поверхности адсорбента становится определяющим фактором. Молекулярные площадки существенно возрастают по мере замещения ОН-групп на атомы фтора или органические радикалы. [42]
Уменьшение адсорбции азота, криптона и других ад-сорбатов на единицу поверхности модифицированных адсорбентов [363, 339] указывает, что принятое ранее при расчете удельных поверхностей адсорбентов допущение о постоянстве молекулярных площадок адсорбата является неверным. На таких адсорбентах не размеры молекулы адсорбата определяют величину молекулярной площадки, а топография самой химической поверхности адсорбента становится определяющим фактором. Молекулярные площадки существенно возрастают по мере замещения ОН-групп на атомы фтора или органические радикалы. Так как удельная поверхность S Nama0 при модифицировании мало изменяется, а адсорбция ат, соответствующая покрытию мономолекулярным слоем, уменьшается, то формальным следствием этого является резкое возрастание молекулярных площадок со0 адсорбата. [43]
Уменьшение адсорбции азота, криптона и других адсорбатов на единицу поверхности модифицированных адсорбентов [6, 14] указывает, что принятое ранее при расчете удельных поверхностей адсорбентов допущение о постоянстве молекулярных площадок адсорбата неверно. На таких адсорбентах не размеры молекулы адсорбата определяют величину молекулярной площадки, а топография самой химической поверхности адсорбента становится определяющим фактором. Молекулярные площадки существенно возрастают по мере замещения ОН-групп на атомы фтора или органические радикалы. [44]
С ККМп может быть переориентация молекул на границе раздела фаз, приводящая к уменьшению площади, экранируемой на поверхности адсорбента одной молекулой / Наибольшее сокращение экранируемой площади ( посадочной молекулярной площадки) достигается при переходе от ориентации молекул, параллельной поверхности адсорбента, к ориентации молекул, нормальной к этой поверхности. [45]