Поверхность - пористое стекло
Cтраница 4
Шепард и Йетс [7] впервые наблюдали ИК-поглощение, индуцированное электрическим полем поверхности адсорбента. Ими было обнаружено появление в спектре полосы основного колебания молекулы водорода при 4131 см-1 и некоторых запрещенных полос метана и этилена при физической адсорбции этих молекул на пористом стекле при - 183 С. Измерив интенсивность полосы адсорбированного водорода и используя значение коэффициента поглощения полосы газообразного водорода, индуцированной внешним электрическим полем, авторы [7] оценили напряженность электрического поля, создаваемого поверхностью пористого стекла на расстоянии, соответствующем расстоянию адсорбированной молекулы водорода от поверхности. Найденное ими значение ( 7 106 в / см) приблизительно на порядок меньше величины, которую дают теоретические расчеты для ионных кристаллов. [46]
Шепард и Йетс [7] впервые наблюдали ИК-поглощение, индуцированное электрическим полем поверхности адсорбента. Ими было обнаружено появление в спектре полосы основного колебания молекулы водорода при 4131 см 1 и некоторых запрещенных полос метана и этилена при физической адсорбции этих молекул на пористом стекле при - 183 С. Измерив интенсивность полосы адсорбированного водорода и используя значение коэффициента поглощения полосы газообразного водорода, индуцированной внешним электрическим полем, авторы [7] оценили напряженность электрического поля, создаваемого поверхностью пористого стекла на расстоянии, соответствующем расстоянию адсорбированной молекулы водорода от поверхности. Найденное ими значение ( 7 10е в / см) приблизительно на порядок меньше величины, которую дают теоретические расчеты для ионных кристаллов. [47]
 |
Изменение структуры пористого стекла - молекулярного сита при изменении состава выщелачивающего раствора ( исходное стекло Са -. [48] |
Указанием на подобный механизм может являться практическое постоянство объема пор на начальной стадии при изменении их эффективного размера. Кроме того, следует отметить, что с глубиной процесса изменения пористой структуры меняется форма изотермы адсорбции воды: расширяется гистерезисная петля с резким спадом при р / ра 0.35 при обнаруживаемой методом молекулярных щупов ультрапористости. Вероятно, влияние повышения концентрации кислоты в выщелачивающем растворе, ускоряющее эти процессы, связано, во-первых, с уводом в раствор большого количества кремнекислоты вследствие более полного выщелачивания натрия и бора и сопутствующим усилением процесса коагуляции кремнекислоты, во-вторых, с усилением дегидратирующей способности раствора по отношению к покрытой гидроокислами поверхности пористого стекла. [49]
Высокосиликатные широко-пористые стекла с жесткой пространственной сетью соединяющихся пор находят все большее применение в многочисленных хроматографических исследованиях. Геометрическая структура поверхности широкопористых стекол сравнительно легко поддается изменению в заданном направлении. Изменяя условия термической обработки, состав исходного сырья или процесс выщелачивания, можно получить стекла с размерами пор от единиц до десятков тысяч ангстрем и с довольно однородным распределением пор. Поскольку поверхность пористых стекол химически модифицируется обычными способами, то можно создать адсорбционно инертные материалы, которые довольно часто применяют в газожидкостной хроматографии в качестве эффективных носителей. [50]
Гель-хроматография, как представляется на первый взгляд, должна быть идеальным методом отделения полимеров и определения их характеристик. Однако большинство известных сорбентов, применяемых в гель-хроматографии, для решения этой задачи не подходят. Поэтому при применении в больших концентрациях эти ионы дают хвосты, а при малых концентрациях полностью адсорбируются. На поверхности пористых стекол и пористого силикагеля ( и их производных) обычно располагается значительное число силанольных групп, которые также энергично взаимодействуют с мономерными и полимерными ионами металлов. [51]
Процесс физической адсорбции может привести к нарушению симметрии молекулы под действием асимметричного силового поля поверхности. Для определенных молекул могут появиться полосы поглощения, которые были запрещены в более симметричном окружении чистого вещества. Запрещенные в ИК-спектре чистых соединений полосы были обнаружены в спектре этилена, метана и водорода, физически адсорбированных на пористом стекле ( Шеппард и Иейтс, 1956; Литтл, 1961; см. также гл. Интенсивность запрещенной полосы водорода была использована Шеппардом и Иейтсом для расчета градиента потенциала на поверхности пористого стекла. [52]
В спектрах адсорбированных пористым стеклом молекул воды также проявляется роль примесных атомов бора. В работе [32] считается, что прочная адсорбция молекул воды пористым стеклом при температурах ниже 300 С обусловлена взаимодействием адсорбированных молекул воды с двумя близкорасположенными гидроксильными группами. Уменьшение адсорбции при повышении температуры дегидроксилирования объясняется исчезновением на поверхности таких мест, наиболее выгодных для адсорбции молекул воды. Проведенные в этой работе гравиметрические адсорбционные измерения показали, что механизм прочной адсорбции молекул воды при более высоких температурах дегидроксилирования ( выше 600 С) другой. Авторы считают, что в этом случае адсорбция происходит на атомах бора поверхности пористого стекла и что это взаимодействие облегчает реакцию молекул воды с другими частями поверхности. [53]
 |
Спектр пористого стекла ви-кор после вакуумирования в течение 12 час при различных температурах. Little L. H., Mathieu M. V. ( 1960, Ргос. 2nd Int. Congr. on Catalysis, Paris, p. 771. [54] |
Бенези и Джонс ( 1959) считали, что молекулярно адсорбированная вода может быть удалена с поверхности кремнезема вакуумированием при комнатной температуре. Спектр пористого стекла в области валентных колебаний гидроксильных групп после вакуумирования образца при последовательном повышении температуры обработки показан на рис. 96, а. Полагали, что это вызвано удалением адсорбированных молекул воды с поверхности пористого стекла. [55]
 |
Зависимость напряжений от толщины выщелоченного слоя у образцов натриевоборосиликатного стекла, выщелоченных в 3 н. НС1 и прошедших термообработку при 500 ( 1, 540 ( 2 т при 580 ( 3. [56] |
Обычному объяснению причин разбухания пористого слоя противоречит тот факт, что напряжения не зависят от температуры кислотной ванны и практически полностью снимаются при высушивании пористого слоя. Опыты с промежуточным высушиванием частично выщелоченного стекла позволяют окончательно убедиться в том, что причиной разбухания пористого слоя является не релаксация напряжений, а непосредственное действие воды. При этом следует подчеркнуть, что действие воды не сводится к простому смачиванию поверхности стекла и понижению его поверхностного натяжения. Помещение предварительно просушенных полувыщелоченных образцов в четыреххлористый углерод практически совсем не вызывает напряжений, а пропитывание спиртом или дихлорэтаном дает заметно меньшие напряжения, чем в случае воды. Зависимость напряжений от условий термообработки и выщелачивания, иллюстрируемая рис. 2 и 3, в первую очередь связана с влиянием этих условий на геометрию поверхности пористого стекла. [57]
Страницы: 1 2 3 4