Cтраница 1
Схема высокочастотного плазмотрона.| Электродный плазмотрон. [1] |
Закалка продуктов реакции осуществляется либо в самом же реакторе затапливанием струи избытком реагирующего газа, либо в устройстве для закалки. Закалочное устройство может представлять собой теплообменник или сопло Лаваля. [2]
Данные получения дициана в плазме. [3] |
Закалка продуктов реакции осуществлялась с помощью медно й воронки охлаждаемой водой, вводимой через дно реакционной камеры. [4]
Для закалки продуктов реакции необходима большая скорость охлаждения для того, чтобы перевести систему в устойчивую для ацетилена область температур порядка 200 С. При медленном снижении температуры газовой смеси происходит разложение ацетилена до водорода и сажи, особенно в области температур 1200 - 1300 С. В интервале температур 600 - 1000 С, наряду с реакцией разложения ацетилена, происходит его полимеризация. При температурах ниже 600 С ацетилен интенсивно поли-меризуется с образованием жидких и твердых веществ. [5]
Для охлаждения и закалки продуктов реакции подведена свежая и циркуляционная вода. Далее реакционный газ проходит насадочный скруббер 4, охлаждается в нем водой и затем поступает на очистку от сажи. [6]
Для чего нужна закалка продуктов реакции при синтезе ацетилена. [7]
Адиабатический реактор дли дегидрирования к-бутнлена. [8] |
Конденсат и о пользуют для закалки продуктов реакции и для питания котла-утилизатора. Далее продукты реакции направляют п цех разделения. [9]
В процессах получения ацетилена осуществляется закалка продуктов реакции - резкое охлаждение их большим количеством специально подаваемой воды. [10]
Зависимость концентрации продуктов реакции от температуры, вида сырья и давления. [11] |
Второй непременной стадией плазмохимического процесса является закалка продуктов реакции с последующим охлаждением смеси до комнатной температуры. [12]
Определим площадь F2 поверхности теплообмена, которая не-я закалки продуктов реакции. [13]
Определяем площадь поверхности теплообмена F2, которая необходима для закалки продуктов реакции. [14]
Определим площадь F2 поверхности теплообмена, которая необходима для закалки продуктов реакции. [15]