Cтраница 2
При испытании молибденовых эмиттеров с тонким вольфрамовым покрытием были получены аналогичные результаты, но выраженные более слабо. Минимальная толщина вольфрамового покрытия, по данным работы [171], должна быть не менее 100 мкм, чтобы предупредить диффузию молибдена на поверхность вольфрамового покрытия в процессе эксплуатации ядерного ТЭП. На подготовленную таким образом поверхность молибдена наносится покрытие из вольфрама с крупнокристаллической структурой, которая обеспечивается высокотемпературным процессом покрытия. Граничная диффузия атомов молибдена через вольфрамовое покрытие с такой структурой сильно снижается вследствие уменьшения поверхности и границ зерен, а объемная диффузия практически при этом отсутствует. [16]
![]() |
Детали из вольфрама, изготовленные методом осаждения из гексафторида вольфрама. [17] |
Все более широко используются в технике вольфрамовые покрытия на различных материалах, получаемые плазменным напылением, осаждением из газовой фазы и другими методами. Из сплавов вольфрам - рений и вольфрам - молибден изготовляют термопары на рабочие температуры до 2000 - 2500 С. [18]
![]() |
Частица вольфрама, Ks [ Fe ( CN6 ] и КОН проявляется столбчатая структура вольфрамовых покрытий, полученных при 800 - 900 С. В ней ярко выр. ажены границы зерен ( 81. При средних температурах. [19] |
Как видно из рис. 81, вольфрамовые покрытия, полученные при температурах подложки 400 - 900 С и температуре W ( CO) 6 40 С, достаточно компактны и не имеют существенных дефектов. W ( CO) 6, в покрытиях начинают появляться дефекты в виде темных включений и отдельных трещин. [20]
Легковозгорающиеся кристаллы; применяется для нанесения вольфрамовых покрытий. [21]
Летучая жидкость; применяется для нанесения вольфрамовых покрытий и получения порошкообразного вольфрама. [22]
Так как сколько-нибудь надежные методы электрохимического нанесения вольфрамовых покрытий из водных растворов отсутствуют, был предложен гальванотермический способ вольфрамирования ( см. гл. [23]
В настоящее время разработан ряд методов нанесения тугоплавких вольфрамовых покрытий, которые аналогичны выше писанным методам нанесения молибденовых покрытий. [24]
Эти опыты оказались неудачными, так как даже толстые вольфрамовые покрытия не защищали волокна от повреждения ( разд. Последующие программы разработки композитов, связанные с использованием гальванического осаждения и диффузионной сварки, будут обсуждаться в разд. [25]
В работе [468] исследованы некоторые кинетические характеристики процесса получения вольфрамовых покрытий карбонильным методом. Показано, что с увеличением количества подаваемых паров карбонила вольфрама, а также с повышением температуры нагрева подложек скорость образования покрытий возрастает. При этом существуют определенные критические параметры, определяемые конструкцией установки. [27]
С; 2) нанесением на внутреннюю поверхность молибденового эмиттера вольфрамового покрытия ( или применением чистого вольфрамового эмиттера); 3) введением в карбидное топливо добавок, уменьшающих растворимость в нем оболочки при. [28]
Таким образом, наиболее качественные, с минимальным содержанием примесей, вольфрамовые покрытия можно получить при температурах подложки 800 С и выше и температуре карбонила порядка 50 С. [29]