Положение - разделяющая поверхность
Cтраница 2
 |
Зависимость поверхностных натяжений от положения разделяющих поверхностей при наличии отталкивания ( сплошные линии и притяжения ( пунктир между поверхностными слоями тонкой пленки. [16] |
Проведенный анализ показывает, что зависимость поверхностного натяжения от положения разделяющей поверхности носит качественно различный характер для случаев искривленной поверхности и тонкой пленки. В случае искривленной поверхности можно подобрать такое положение разделяющей поверхности, когда энергия поверхностного слоя явно не зависит от кривизны. [17]
Для плоского поверхностного слоя величина а не зависит от положения разделяющей поверхности. Это утверждение, вполне очевидное по физическому смыслу, доказывается в работе Гиббса. Определение о как удельной работы образования поверхности или удельной избыточной свободной поверхностной энергии было дано около ста лет назад. [18]
Для плоского поверхностного слоя величина а не зависит от положения разделяющей поверхности. Это утверждение доказывается в работе Гиббса. Определение сг как удельной работы образования поверхности или удельной избыточной свободной поверхностной энергии было дано около ста лет назад. [19]
Для плоского поверхностного слоя величина о не зависит от положения разделяющей поверхности. Это утверждение доказывается в работе Гиббса. Определение 0 как удельной работы образования поверхности или удельной избыточной свободной поверхностной энергии было дано около ста лет назад. [20]
Изменение межфазного натяжения сопровождается изменением адсорбции и некоторым изменением положения разделяющей поверхности, поэтому строгое соблюдение постоянства толщины оказывается трудно осуществимым. Практически изменением толщины пленки ввиду его малости в большинстве случаев можно пренебречь. [21]
Один из них заключается в наложении определенного условия при выборе положения разделяющей поверхности ( ss, рис. V. Гиббс формулирует это условие следующим образом: проведем разделяющую поверхность так, чтобы Г О, Он доказывает, что это условие можно осуществить для любой системы. [22]
Один из них заключается в наложении определенного условия при выборе положения разделяющей поверхности ( ss, рис. V. Он доказывает, что это условие можно осуществить для любой системы. [23]
 |
Изменение количества молекул п в единице объема в системе жидкость - пар по нормали к. [24] |
Из (1.1) следует, что величина и знак Ns зависят от положения разделяющей поверхности. Такую разделяющую поверхность называют эквимолекулярной. [25]
 |
Изменение количества молекул п в единице объема в системе жидкость - пар по нормали к поверхности раздела. [26] |
Из (1.1) следует, что величина и знак № зависят от положения разделяющей поверхности. Такую разделяющую поверхность называют эквимолекулярной. [27]
Как и поверхностное натяжение поверхностных слоев, натяжение пленки зависит от положения разделяющей поверхности. [28]
Если известна зависимость поверхностного натяжения каждого из поверхностных слоев пленки от положения разделяющей поверхности, то аналогичная зависимость для пленки в целом, выраженная уравнением ( XIII. Положение и глубина минимумов на всех трех кривых будут, очевидно, различными, и необходимо найти соотношения, дающие связь между ними. [29]
 |
Изменение количе - во изменяется скачкообразно, ства молекул п в единице Для поверхностного слоя характерен. [30] |
Страницы: 1 2 3 4