Центральное проектирование

Cтраница 4

Два пучка, лежащие в разных плоскостях. [46]

Поэтому сложное отношение является проективным признаком, или проективным инвариантом - оно не изменяется при центральном проектировании. Иначе говоря, два ряда проективны тогда и только тогда, когда они имеют одинаковое сложное отношение. На рис. 11.3 ряды X и Z имеют одинаковое сложное отношение, а именно сложное отношение ряда Y, который является общим для обоих пучков. [47]

Таким образом, проективные координаты оправдывают свое название; они в самом деле инвариантны по отношению к центральному проектированию. [48]

Вместо гиперплоскостей П, П можно рассматривать две плоскости IIfc, Щ произвольной одинаковой размерности k и определить центральное проектирование одной из них на другую, но при этом требуется специальное взаимное расположение плоскостей Пй, Щ и точки О. [49]

Проектирование, при котором все лучи проходят через одну точку S ( центр проектирования), носит название центрального проектирования, а проекция AiBid - центральной проекцией фигуры. [50]

Из сказанного видно, что в пространстве, дополненном несобственными элементами, способ параллельного проектирования представляет собой лишь частный случай центрального проектирования, когда центр проектирования является несобственной точкой. [51]

Создав пространство, в котором без всяких исключений может осуществляться проектирование, перейдем к изучению соответствия двух плоских фигур, получаемого в результате центрального проектирования. [52]

Двумерные проективные координаты. [53]

Теперь мы хотим показать, что проективная координата лежащей на плоскости точки Р ( взятая относительно некоторой базы) инвариантна по отношению к центральному проектированию. Общий случай показан на рис. 11.7, где мы можем считать ABC плоскостью объекта, L произвольным центром объектива, а А В С произвольной плоскостью изображения. [54]

Создав пространство, в котором без всяких исключений может осуществляться операция проектирования, перейдем к изучению соответствия двух плоских фигур, получаемого в результате центрального проектирования. [55]

Страницы: 1 2 3 4