Cтраница 1
Процесс нанесения пленки не обеспечивает ее равномерности по всей площади подложки, и, как правило, наблюдается некоторое уменьшение толщины на краях пленки. [1]
Процесс нанесения пленок складывается из двух этапов: превращения вещества в газообразное состояние и конденсации. По способу превращения вещества в газообразное состояние методы вакуумного нанесения подразделяются на термовакуумное испарение, катодное и ионно-плазменное распыление. Термовакуумное испарение осуществляется нагревом испаряемого вещества. При этом вещество плавится, а затем образуется пар. Катодное распыление заключается в использовании явления разрушения катода, который является испаряемым веществом, при бомбардировке его ионизированными атомами газа. Разновидностью катодного распыления является ионно-плазмен - юе. [2]
Процесс нанесения пленки аморфного или поликристаллического вещества на нейтральную подложку называют пароосаждением. Частным случаем такого покрытия подложки при использовании ориентированных подложек является эпитаксиальный способ. В случае диэлектрических фаз его называют пиролизом, поскольку используют достаточно высокие температуры образования продуктов осаждения. [3]
В процессе нанесения пленки с испарителя непрерывно поступают на подложку атомы, которые либо образуют новые центры кристаллизации, либо располагаются вокруг уже образовавшихся центров. При достижении определенных размеров и количества центров кристаллизации поступившие атомы могут осуществлять электрический контакт между отдельными зернами. Появляется проводимость, и сопротивление слоя быстро падает при некоторой критической толщине Акр. [4]
Часто в процессе нанесения пленок захватываются газообразные элементы, особенно при нанесении катодным распылением. Есть несколько стандартных приемов, пригодных для их определения; азот может быть определен вакуумным плавлением, плавлением в инертном газе, методом Кьелдаля и галогенированием; кислород - вакуумным плавлением или плавлением в инертном газе; водород - вакуумным плавлением. Во всех этих методах применяются достаточно большие образцы. Масс-спектро-метрия имеет более широкое применение вследствие неселективности, а а также и потому, ч го газообразные элементы в этом случае могут быть определены одновременно с другими элементами. Преимущество способа состоит в том, что требуются микрограммные количества образца и он может быть использован для анализа очень малых участков поверхности. Как было установлено Гутрненом [ 156, сложность возникает из-за того, что наиболее часто встречающиеся в металлических образцах элементы СН2, О2 и N2 содержатся также и в остаточных газах в вакуумной системе. Если эти газы попадают под действие искры, они влияют на спектр. Поэтому расходимость результатов анализа, полученных различными методами, такими как масс-спектрометрия, нейтронная активация и микросгорания, - может быть довольно значительной. [5]
В целях ускорения процесса нанесения пленки часто используют отверстия, площадь которых соизмерима с поверхностью испарения вещества, вплоть до полностью открытых тиглей или лодочек. [6]
Процесс нанесения изоляционной пленки аналогичен процессу нанесения пленки лаков № 302 и 202, отличается лишь температурным режимом и осуществляется только после отжига пластин из-за недостаточной жаростойкости. [7]
Аналогичное влияние повышения температуры в процессе нанесения пленок на увеличение их адгезии наблюдается и при химическом методе нанесения пленок из растворов гидролизующихся соединений. Так, например, как показано ранее ( см. табл. 16), пленки WO3 при нанесении их на нагретое до 50 С стекло К8 оказываются значительно прочнее, чем те же пленки, полученные на непрогретом стекле. [8]
Предположим, что эта машина управляет процессом нанесения пленки на плату модуля. [9]
Составление топологического плана расположения отдельных слоев с учетом особенностей процесса нанесения пленок и эффектов распределения; конечным результатом этого этапа является набор рисунков будущих масок. [10]
Наиболее эффективным методом очистки поверхности подложки является газовое травление непосредственно в реакционной камере до начала процесса нанесения пленки. Для этого в начале эксперимента температура зоны осаждения должна превышать температуру первой зоны. Через аппарат пропускают паро-газовую смесь в течение нескольких минут; после чего температуру зоны понижают до ее нормального значения и проводят процесс. [11]
Прочность закрепления поверхностных пленок на стекле и полупроводниковых материалах обусловлена также изменением температуры обрабатываемой детали в процессе нанесения пленки. [12]
Аппараты с псевдоожиженным слоем с усовершенствованными узлами ввода и вывода продукта, методами введения тепла, конструкциями газораспределителя дают возможность эффективно проводить процессы нанесения пленки на пиьс-рл-ногть гранул, теплообменные процессы, разделение частиц по границе размера менее 1 - 0 5 мм. [13]
Напряжение пробоя анодных магниевых пчелок 190 - 290 В, толщина достигает 80 мкм, основной недостаток - низкая эластичность Кроме того, процесс нанесения пленок весьма трудоемок. [14]
Недостатком покрытия является плохая адгезия их к защищаемому металлу, поэтому процесс подготовки поверхности под покрытие иногда составляет большие трудности, чем сам процесс нанесения пленки. [15]