Работа - выход - металл
Cтраница 2
Покрытия золотом относятся к антиэмиссионным вследствие высокой работы выхода металла и его способности связывать активное вещество, напыляемое с катодов, чем обусловлено их широкое использование в про-изводстве оеток многих электронных ламп. [16]
Разность потенциалов (246.1), обусловленная различием работ выхода контактирующих металлов, называется внешней контактной разностью потенциалов. Чаще говорят просто о контактной разности потенциалов, подразумевая под ней внешнюю. [17]
При адсорбции на поверхности металла органических молекул работа выхода металла Ф изменяется на величину АФ. [18]
Величина подъема уровней должна бы определяться разностью работ выхода металла и полупроводника. Можно, как и раньше, ввести поверхностный потенциал cps и тогда величина ф8 равнялась бы примерно Wm-Ws. Однако экспериментально показано, что это не так и что величина cps почти не зависит от Wm. Таким образом, значение ф3 определяется в основном поверхностными состояниями и почти не зависит от природы металла. Следовательно, в изолирующем слое на поверхности должно существовать электрическое поле, обусловливающее смещение уровней Ферми в металле и полупроводнике до тех пор, пока они не совпадут. [19]
В табл. 2 - 1 даны величины работ выхода металлов, используемых в электронной технике. [20]
Картина перехода несколько меняется, если разность работ выхода металла и полупроводника велика. [21]
Сдвиг длинноволновой границы происходит за счет увеличения работы выхода металла катода и захвата фотоэлектронов в присутствии электроотрицательного газа. [22]
Как уже было отмечено в разделе V, работа выхода металла, характеризующая энергию, необходимую для удаления из него электрона, и в то же время сродство этого металла к электрону во многих случаях оказывает значительное влияние на величину теплоты хемосорбции. Истинная величина работы выхода различна для разных кристаллографических граней металла. Это положение качественно весьма эффектно демонстрируется эмиссионными изображениями, получаемыми при помощи мюл-леровского электронного проектора. В 1937 г. Мюллер [210], изучая автоэлектронную эмиссию с вольфрамового монокристаллического острия, наблюдал, что грань 110 обладает наиболее слабой эмиссией электронов. [23]
 |
Пояснение физического смысла работы выхода. [24] |
Контакт металл - полупроводник в зависимости от соотношения работ выхода металла и полупроводника, а также в зависимости от типа полупроводника может быть выпрямляющим или омическим. [25]
В этом параграфе рассматриваются лишь потенциальные барье ры, обусловленные разностью работ выхода металла и полупровод ника. Влияние поверхностных состояний будет рассмотрено нами в следующей главе. [26]
Образование запирающего слоя вблизи поверхности полупроводника не всегда связано с разностью работ выхода металла и полупроводника. [27]
Голландские исследователи [145] склоняются больше к тому, что калий уменьшает работу выхода металла ( он образует положительно заряженный слой, см. гл. Известно, что при нагревании до 400 в вакууме или водороде катализатор эмитирует металлический калий, что представляет собой значительную добавку к термоэлектронной эмиссии. [28]
 |
Эмиссионные константы пленочных катодов.| Работа выхода металлов, покрытых пленками водорода и кислорода. [29] |
Для практики имеет значение влияние поверхностных пленок водорода и кислорода на работу выхода металлов. Изменение работы выхода не только катода, но и холодных деталей ( сеток, анода) изменяет контактную разность потенциалов и вызывает смещение характеристик. Кислород может попасть на поверхность деталей вакуумного прибора при их обработке и при откачке. Отжиг деталей вакуумных приборов в водороде широко применяется для очистки их от окислов, и при этом неизбежно происходит поглощение водорода. [30]
Страницы: 1 2 3 4