Тлеющий разряд - постоянный ток
Cтраница 2
В данной работе представлено экспериментальное исследование низкочастотных колебаний плотности пылевых частиц, самопроизвольно возбуждающихся в стоячих стратах тлеющего разряда постоянного тока. В результате было обнаружено, что волны распространяются от анода к катоду вниз и только в некоторой области в голове страты, частота и волновой вектор наблюдаемых колебаний зависят от разрядного тока, давления и количества частиц в пылевом облаке. [16]
В данной работе было проведено экспериментальное исследование низкочастотных колебаний плотности пылевых частиц, возбуждающихся в стоячих стратах тлеющего разряда постоянного тока в аргоне. [17]
С другой стороны, известно [16], что приэлектродные области высокочастотного тлеющего разряда весьма близки к катодным частям тлеющего разряда постоянного тока, и в частности, в обоих типах разряда наблюдается распыление внутренних электродов. Поэтому представляет интерес исследовать возможность применения высокочастотного тлеющего разряда для возбуждения спектра металлов в лампах с полыми электродами и сравнить их спектральные характеристики с характеристиками тех же ламп, питаемых постоянным током. [18]
 |
Зависимость скорости распыления в аргоне ( 1 - меди. 2 - титана в высокочастотном разряде. а - от давления. б - от ионного тока. в - от приэлектродного потенциала. [19] |
Основные зависимости скорости распыления от параметров высокочастотного разряда ( рис. 4) качественно не отличаются от наблюдаемых в тлеющем разряде постоянного тока. Однако абсолютные величины измеренных нами скоростей распыления в высокочастотном разряде оказались значительно более вы. Так как опыт не показал заметного различия величин ионных токов на распыляемый электрод в тлеющем и высокочастотном разрядах, причину различия скоростей распыления нужно искать в энергиях ионов. Следует отметить, что при сильном нагреве электродов происходит их термическое распыление. Однако расчет, произведенный с учетом измеренных нами температур электродов ( - 500 С в тлеющем разряде и до 1000 С в высокочастотном разряде), показал, что термическим распылением можно пренебречь даже для меди во всем интервале условий наших экспериментов. [20]
Поставленную задачу решают двумя путями: зная аналитическое выражение закона изменения напряжения на источнике питания, величину ограничивающего сопротивления и уравнение статической вольтамперной характеристики тлеющего разряда постоянного тока, определяют функциональные зависимости v f ( t) и i q ( t), которые являются динамическими характеристиками тлеющего разряда переменного тока, или на основе совместного анализа статических вольтамперных характеристик постоянного тока и формы кривой напряжения на источнике питания приводят графическое построение соответствующих динамических характеристик тлеющего разряда переменного тока. [21]
В работе [51] был использован метод высокочастотного кольцевого разряда с внешними электродами. Этот метод по сравнению с тлеющим разрядом постоянного тока позволяет получать пленки при более низких давлениях химического соединения, повышает воспроизводимость состава пленок и позволяет избежать загрязнения пленок материалом электродов. [22]
 |
Схема трубки с тлеющи. м разрядом. [23] |
Атомы анализируемого вещества могут поступать в разряд не только в процессе термического испарения, но и под действием бомбардировки поверхности анализируемого вещества ионами. В спектральном анализе для этой цели используют тлеющий разряд постоянного тока при пониженном давлении инертного газа, осуществляемый в специальных разрядных трубках, катод которых изготовлен в виде полого цилиндра. [24]
Экспериментально упорядоченные системы пылевых частиц удалось наблюдать только в середине 90 - х годов сначала в плазме высокочастотного разряда вблизи границы прикатодной области [13-16], где за счет большой величины электрического поля возможна компенсация силы тяжести и левитация частиц. В вертикальном направлении частицы также упорядочены и располагаются одна под другой, образуя цепочки. На рис. 11.2 представлена упорядоченная структура пылевых частиц в тлеющем разряде постоянного тока. Кристаллизация пылевого компонента и фазовые переходы в различных типах пылевой плазмы представляют на сегодняшний день обширную область исследований. [26]
 |
Зависимость скорости нанесения пленок смешанных окислов свинца и теллура от катодного напряжения. [27] |
В результате рассмотрения энергий активации, необходимых для различного типа процессов роста, был сделан вывод о том, что образование окисной фазы во время реактивного распыления происходило почти полностью на подложке. Для пленок окиси алюминия, например, наносимых на сапфир прямым ( высокочастотным) распылением, скорость нанесения изменялась от 75 А / мин при температуре подложки 375 С до 38 А / мин при температуре подложки 520 С. В то же время для пленок окиси алюминия, получаемых на сапфире реактивным распылением в тлеющем разряде постоянного тока, скорость нанесения изменялась от 95 А / мин при температуре подложки 375 С до 145 А / мин при температуре подложки 500 С. [28]
Страницы: 1 2