Катодное распыление

Cтраница 2

Катодное распыление заключается в разрушении оксида за счет бомбардировки поверхности катода ( при горении дуги на обратной полярности) тяжелыми положительно заряженными ионами аргона. При соударении с поверхностью, покрытой оксидом, ионы отдают свою кинетическую энергию поверхностным атомам, разрушают и испаряют оксидную пленку. [16]

Катодное распыление, при прочих равных условиях, пропорционально силе тока в трубке. [17]

Катодное распыление всегда сопровождается поглощением газа распыленными частицами. При катодном распылении поглощаются также и инертные газы, хотя поглощение последних происходит в гораздо меньшей степени. При этом аргон поглощается много сильнее неона. [18]

Катодное распыление проводят в течение 5 - 60 мин при напряжении 1100 - 1400 В и давлении 0 1 - 0 2 мм рт. ст. В процессе катодного распыления температура поверхности детали не превышает 250 С. [19]

Катодное распыление проводят в течение 5 - 60 мин гари напряжении 1100 - 1400 В и давлении 0 1 - 0 2 мм рт. ст. В процессе катодного распыления температура поверхности детали не превышает 250 С. [20]

Катодное распыление и вакуумная конденсация металлов на поверхности пластиков требуют дорогого и; сложного оборудования. [21]

Катодное распыление - процесс, в котором мишень, изготовленная из материала покрытия, распыляется при бомбардировке ее положительными ионами. Распыленные частицы осаждаются на поверхности подложки, образуя покрытие. Если распыляется диэлектрик, то он помещается на проводящем электроде ( катоде); если распыляется металл, то он может быть либо целиком катодом, либо его частью. [22]

Катодное распыление также применяют для осаждения сухих смазочных материалов и получения твердых и износостойких покрытий. [23]

Катодное распыление позволяет преодолеть указанные трудности. [24]

Катодное распыление получило широкое распространение при осаждении пленок металлов, полупроводников и их композиций. Однако распыление диэлектрических материалов таким путем практически невозможно, так как на поверхности катода быстро образуется положительный заряд, который не может быть нейтрализован. Для получения окисных диэлектрических пленок катодное распыление металлов производят в атмосфере кислорода, и молекулы металла при испарении, вступая в химическое взаимодействие с атомами кислорода, образуют окислы. При этом определенный состав и композиция окислов обеспечиваются композицией сплава в катоде. Таким путем можно получить, например, окислы Та2О5, Nb2O5, TiO2, SiO2 и др., которые можно использовать в качестве диэлектриков пленочных конденсаторов. Основной недостаток катодного распыления - низкая скорость осаждения ( порядка 4 0 нм / мин) - устраняется при использовании высокочастотного катодного распыления. [25]

Катодное распыление материалов в отличие от методов термического испарения осуществляется за счет энергии положительных ионов, образующихся в тлеющем разряде и бомбардирующих катод из распыляемого материала. С помощью катодного распыления получаются пленки тугоплавких материалов, различных сплавов и смесей без нарушения процентного соотношения входящих компонентов. [26]

Зависимость интенсивности потока / ионов Ge, выбитых ионами Кг из германиевой мишени, от энергии Е ( I - кривая задерживающего потенциала. [27]

Катодное распыление компонентов сложных соединении или сплавов может происходить различным образом олагодаря различию относительных коэффициентов распыления. [28]

Установка для распыления палладия. [29]

Катодное распыление палладия осуществляется в вакуумных установках ( рис. 9 - 15), рабочей частью которых является стеклянный баллон с двумя изолированными от его металлического основания вводами. К одному из вводов, защищенному от напыляемого металла керамической втулкой, крепится керамическая пластина / с подвешенным к ней снизу отрезком палла-диевой ленты 2, чем обеспечивается необходимое направление разряда. Палладий электрически соединен с вводом проводником, заключенным в стеклянную трубку. Величина зазора между палладием и матрицей может регулироваться. [30]

Страницы: 1 2 3 4