Cтраница 3
Катодное распыление графита сравнительно мало, работа выхода электронов велика ( см. § 8 - 5 - 11 и гл. Исключительно высока точка плавления графита и мало давление его насыщенных паров ( см. рис. 9 - 5 - i); благодаря таким свойствам этот материал спосо бен конкурировать в вакуумной технике с вольфрамом, молибденом и таиталом. [32]
Катодное распыление оксидной пленки происходит при сварке переменным током со специальной характеристикой. В полупериоде прямой полярности, когда катодом является нагретый свыше 4000 К вольфрамовый электрод, мощная термоэлектронная эмиссия обеспечивает значительный ток дуги и интенсивное плавление основного металла. Напряжение зажигания почти равно напряжению дуги и при короткой дуге в аргоне может составлять всего 10 В. [33]
Зависимость удельного сопротивления пленок тантала от парциального давления.| Характерные рабочие области режимов. [34] |
Прямое катодное распыление диэлектриков одним из высокочастотных методов оказывается более эффективным. Поэтому метод реактивного распыления используется в основном для получения высокоомных резисторов. [35]
Катодное распыление поверхностного слоя растущей совокупности приводит в первую очередь к замедлению вхождения примесей в состав совокупности через ее поверхность; главным образом это относится к наиболее интенсивно распыляемым элементам. В [13] приведено содержание элементов внедрения ( углерода, азота, кислорода) в вольфраме, полученном при разложении хлоридов вольфрама в тлеющем разряде. При поверхностной плотности потока энергии разряда больше 40 Вт / см2 содержание этих элементов уменьшается примерно в 2 раза по сравнению с безразрядными условиями. [36]
Путем катодного распыления удается получать пленки тугоплавких металлов. Для получения нитридов тугоплавких металлов применяется разряд в смеси аргона с азотом, для получения карбидов - смесь аргона с метаном или аргона с окисью углерода. Поскольку такие металлы, как титан, тантал, цирконий и ниобий, являются хорошими газопоглотителями, то даже при распылении в атмосфере аргона без специальной добавки реактивного газа образуются пленки, удельное электрическое сопротивление которых больше, чем удельное сопротивление распыляемого металла. Эти пленки имеют такую же структуру, как и сам распыляемый металл, а растворенные в них атомы газов, не вытесняя атомов металла из кристаллической решетки, располагаются в промежутках между ее узлами. [37]
Катодным распылением успешно получают пленки германия. С помощью катодного распыления получают также слон CdSb, CdS [19] с такой же подвижностью и концентрацией носителей заряда, как и для исходного образца-мншени. [38]
Катодным распылением называют процесс вырывания атомов либо молекул вещества катода под действием ударов положительных ионов. Катодному распылению могут подвергаться не только катод, но и другие электроды прибора, а также и стенки. [39]
Схема установки для нанесения пленок методом катодного распыления. [40] |
Катодным распылением можно наносить пленки металлов, сплавов, полупроводников, диэлектриков. [41]
Катодным распылением пользуются для покрытия различных материалов тонкими слоями металл. Катодное распыление полупроводников не изучено. [42]
Катодным распылением пользуются для покрытия различных материалов тонкими слоями металла. Катодное распыление полупроводников не изучено. [43]
Катодным распылением алюминия в чистом кислороде получают прозрачную, почти безупречно ровную защитную пленку А12Оз, которая, если ее осадить на металлическое зеркало, защищает его от потускнения на воздухе. [44]