Позитивный резист
Cтраница 1
Позитивные резисты AZ-15, AZ-17, AZ-1350 и AZ-340 могут быть полностью удалены ацетоном, кетонами, ацетатом целлюлозы и другими растворителями и сильными щелочными растворами. Пригодны растворы или резистив-ные растворители, специально разработанные для этих резистов. [1]
Слой позитивного резиста сначала экспонируют пучком электронов, например, дозой З - Ю 6 Кл / см2 при 25 кВ или обычным УФ-светом, а после проявления экспонируют целиком коротковолновым УФ-излуче-нием. После сплошного экспонирования проявляют планаризацион-ный слой, на котором слой резиста AZ-1350 может быть сохранен или удален путем подбора проявителя ( см. рис. VIII. Это достигается при использовании в качестве проявителя соответственно толуола или метилизобутилкетона. Рекомендуется удалять возникший на границе фаз слой кислородной плазмой, особенно при экспонировании пучком электронов. [2]
Из позитивных резистов композиция SCR-5 отличается высокой разрешающей способностью; используется в микроэлектронике; разводится в отношении 1: I. Композиция SCR-9 рекомендуется для серийного производства многослойных печатных плат с металлизированными отверстиями; оптимальная толщина 5 - 10 мкм; наносится поливом, большая вязкость резиста предотвращает затекание в отверстия. [3]
Слой позитивного резиста сначала экспонируют пучком электронов, например, дозой 3 - 10 - 5 Кл / см2 при 25 кВ или обычным УФ-светом, а после проявления экспонируют целиком коротковолновым УФ-излуче-нием. После сплошного экспонирования проявляют планаризационный слой, на котором слой резиста AZ-1350 может быть сохранен или удален путем подбора проявителя ( см. рис. VIII. Это достигается при использовании в качестве проявителя соответственно толуола или метилизобутилкетона. Рекомендуется удалять возникший на границе фаз слой кислородной плазмой, особенно при экспонировании пучком электронов. [4]
Наиболее широко применяемым позитивным резистом для электронолитографии является полиметилметакрилат [95], который де-структирует в местах действия потока электронов. Изображение проявляют, растворяя смесью метилизобутилкетон - изопропанол 1: 3 ( мокрое проявление) или испаряя в вакууме 1 33 - 10 - 4 Па при 120 - 150 С ( сухое проявление) деструктированные фрагменты полимера. [5]
Другая группа позитивных резистов включает материалы, в пленкообразующем полимере которых в результате ряда фотохимических, а затем термических стадий или разрушается основной скелет, или за счет превращений заместителей в цепи полимера появляются кислотные функции. В обоих случаях резко повышается растворимость экспонированных участков по сравнению с не-фотолизованными, что и приводит при проявлении к позитивному рельефу. [6]
Определение чувствительности позитивных резистов проводят двумя несколько различающимися способами. [7]
В качестве позитивных резистов для электронной литографии исследованы также поли-а-алкенилкетоны, проявляющие чувствительность 3 - Ю-6 Кл / см2 при 15 кВ [ пат. [8]
 |
Характеристики чувствительности фоторезиста. Изображение, получаемое после проявления, для различных типов резяста. [9] |
В качестве позитивных резистов с повышенной чувствительностью могут использоваться неорганические резисты, например слой Se-Ge, поверх которого нанесено серебро. Этот ре-зист может быть проявлен в плазме ( сухое проявление) и в щелочном растворе, так как в результате освещения серебро проникает в нижний слой и на освещенном участке слой Se-Ge становится нерастворимым. [10]
Другая группа позитивных резистов включает материалы, в пленкообразующем полимере которых в результате ряда фотохимических, а затем термических стадий или разрушается основной скелет, или за счет превращений заместителей в цепи полимера появляются кислотные функции. В обоих случаях резко повышается растворимость экспонированных участков по сравнению с не-фотолизованными, что и приводит при проявлении к позитивному рельефу. [11]
Определение чувствительности позитивных резистов проводят двумя несколько различающимися способами. [12]
В качестве позитивных резистов для электронной литографии исследованы также поли-а-алкенилкетоны, проявляющие чувствительность 3 - Ю-6 Кл / см2 при 15 кВ [ пат. [13]
В качестве высокочувствительных позитивных резистов хорошо зарекомендовали себя итерированные эфиоы метакриловой кислоты ( табл. VII. [14]
В качестве высокочувствительных позитивных резистов хорошо зарекомендовали себя Фторированные эс. [15]
Страницы: 1 2 3 4