Cтраница 4
Роль точечных дефектов в образовании дислокационных петель выяснена недостаточно. Вероятно, в процессе осаждения пленки при испарении происходит захват множества вакансий, в частности, когда осаждение проводится при низких температурах и при высоких скоростях осаждения. В случае, когда подвижность точечных дефектов небольшая, точечные дефекты скапливаются медленно, что приводит к образованию дислокационных петель и других дефектов. Это обеспечивает также направленную миграцию точечных дефектов к поверхности тонких пленок. [46]
Будет ли осажденная пленка кремния поликристаллической или аморфной, зависит от соотношения между скоростями поверхностной диффузии и поверхностной химической реакции осаждаемых атомов кремния. Увеличение скорости поверхностной диффузии при низкой скорости осаждения и высокой температуре благоприятствует процессам зародышеобра-зования и кристаллизации, формируя поликристаллическую пленку тогда как уменьшение скорости поверхностной диффузии при высокой скорости осаждения и низкой температуре способствует осаждению аморфных кремниевых пленок. [47]
Скорость осаждения осадка при этом весьма малая. Поэтому процесс ведут при высоких температурах ( 95 - 100) и плотностях тока ( 10 - 20 а / дм2), в так называемых горячих электролитах, с высокими скоростями осаждения металла. [48]
Процесс покрытия изделия медью или осадки меди получают из кислых, из щелочно-цианистых растворов. Достоинством их является высокая скорость осаждения меди. Однако они не могут использоваться для нанесения медных покрытий на изделия сложной формы. [49]
По скорости расслаивания осадки подразделяются на расслаивающиеся очень быстро, быстро и медленно. При выборе обезвоживающего оборудования, как правило, учитывается скорость осаждения частиц осадков. Кроме того, высокая скорость осаждения твердой фазы позволяет использовать для обезвоживания процесс осаждения вместо процесса фильтрования. Если же достаточно полного обезвоживания при этом не происходит, то путем предварительного сгущения осадка достигается интенсификация последующих процессов фильтрования. Обзор литературных данных и результаты проведенных исследований показывают, что отмечается симбатная взаимосвязь между скоростью осаждения частиц суспензии, скоростью ее фильтрования, удельным сопротивлением. [50]
Процесс очистки рассола следует проводить таким образом, чтобы сравнительно быстро получить прозрачный рассол с малым количеством шлама. На кинетику отстоя и уплотнения шлама влияют различные факторы. Так, для достижения высоких скоростей осаждения и минимального конечного объема шлама желательно, чтобы соотношение ионов Са2 и Mg2 в суспензии было возможно большим. Поэтому при очистке рассолов, богатых магнием, более рационально применение извести, так как при очистке от Mg2 ионы Са2, образующиеся при диссоциации Са ( ОН) 2, переходят в конечном результате в СаСО3, увеличивая соотношение ионов кальция и магния в суспензии. [51]
Когда скорость адсорбции мала, наблюдается конкуренция двух противоположно направленных процессов: осаждение металла и увеличение активной поверхности, с одной стороны, и пассивирование поверхности вследствие адсорбции чужеродных частиц и уменьшение активной части электрода - с другой. В результате этих процессов на участках, где происходит замедление выделения металла, пассивирование превалирует над осаждением, и металл перестает выделяться. Участки же, где сохраняется высокая скорость осаждения металла, остаются активными и продолжают расти. Вследствие роста одних участков поверхности и прекращения осаждения металла на других осадок металла получается неравномерным. [52]
Очевидно, что процесс должен проводиться в среде, свободной от кислорода, так как он может реагировать и с органической частью молекулы, и с металлом: и таким образом загрязнять осаждающуюся пленку. Но чаще всего осаждение пленок хрома проводится в вакууме. Слишком высокое давление паров хроморганических соединений приводит к высокой скорости осаждения и, как следствие, к посредственной адгезии пленки к подложке. По некоторым данным [419], предпочтительней использовать давление около 10 мм рт. ст. как максимальное, а чаще всего выращивание пленок хрома из паровой фазы при термическом разложении хроморганических соединений проводят при давлении 0 01 - 10 мм рт. ст. Желаемая толщина покрытия, как правило, достигается за счет продолжительности процесса разложения соединения. [53]
Хидениус же утверждал10, что при сильном прокаливании разложение до окиси тория происходит полностью. Гидрат тетрафторида также был получен осаждением. В модифицированном способе в качестве осадителя пользуются NH4HF2, причем выделяется МНДЬРз, обладающий высокой скоростью осаждения и хорошей фильт-руемостыо. [54]
Благодаря непродолжительности нагревания основного металла во время напыления покрытия опасность механического повреждения снижается до минимума. Кроме того, в, связи с быстрым охлаждением распыляемых частиц в качестве покрытий можно использовать металлы с более высокой точкой плавления, чем у основного металла, на который они наносятся. Если к перечисленным выше преимуществам добавить такие достоинства, как портативность дробеструйной и напыляющей установок, высокую скорость осаждения и возможность автоматизации процесса, то станет ясно, что напыление покрытия методом металлизации приемлемо для изделий самых разнообразных форм и размеров. [55]
Хидениус же утверждал10, что при сильном прокаливании разложение до окиси тория происходит полностью. Гидрат тетрафторида также был получен осаждением. В модифицированном способе в качестве осадителя пользуются NH4HF2, причем выделяется NH / tThFs, обладающий высокой скоростью осаждения и хорошей фильт-руемостью. [56]