Cтраница 4
Полученные результаты объясняются на основе представлений о возникновении регулярных диссинативных структур ( РДС) дефектов в Процессе образования остаточного нарушенного слоя При множественном локальном микроразрушении поверхности кристалла. РДС формируется из метастабильных комплексов неравновесных точечных дефектов, взаимодействующих через упругие и электрические поля и профиль распределения которых промодулирован дислокационным каркасом в области вдавливания абразивных частиц. Переход кристалла после обработки в новое квазиравновесное состояние сопровождается распадом РДС, при котором возможны локальные фазовые переходы, проявляющиеся как отрицательная микроползучесть кремния. Обсуждаются аспекты практического использования обнаруженного явления для оптимизации механической обработки монокристаллов. [46]
Окисные пленки удаляются с поверхности за счет так называемого процесса восстановительного растворения, протекающего на участках металла с нарушенным слоем окисла. Переход катионов железа в травильный раствор наблюдается именно на этих участках или в местах дефектности решетки окисла, при этом с течением времени нарушается связь окалины с поверхностью, вследствие чего окалина отслаивается. [47]
Места устройства нового гидроизоляционного слоя обнажаются путем разборки отмостки, тротуара и отрывки траншей или котлованов на всю длину нарушенного слоя гидроизоляции. При глубине траншей свыше 1 м устанавливается крепление стенок или отрываются траншеи с откосами. [48]
При шлифовке следует обращать внимание на то, чтобы она проводилась последовательно несколькими абразивами с уменьшающимся размером зерна и чтобы после окончания механической обработки приповерхностный нарушенный слой имел достаточно малую толщину. [49]
Концентрация Е [ - центров существенно возрастала при приближении к границе Si - - Si02, что авторы связывают с меньшей радиационной стойкостью стехиометрически нарушенного слоя SiOx. ЭПР от Е [ - центров в решетке диоксида кремния слабо зависит от ближайшего окружения, наблюдаемые параметры пинии ЭПР практически не зависели от вида облучения и or природы имплантированных ионов. В частности, на этот релаксационный процесс заметное влияние оказывают адсорбированные частицы. [50]
Отчет должен содержать: 1) краткое описание методики травления; 2) график кинетических кривых при определении нарушенного слоя; 3) расчет глубины нарушенного слоя; 4) расчет плотности дислокаций; 5) выводы по работе. [51]
По окончании шлифовки на поверхности все же остается механически нарушенный слой толщиной от нескольких микрон и выше, под которым расположен еще более тонкий, так называемый физически нарушенный слой. Последний характерен наличием незримых искажений кристаллической решетки и механических напряжений, возникающих в процессе шлифовки. [52]
По окончании шлифовки на поверхности все же остается механически нарушенный слой толщиной от нескольких микрон и выше, под которым расположен еще более тонкий, так называемый физически нарушенный слой. Последний характерен наличием скезри-мых искажений кристаллической решетки и механических напряжений, возникающих в процессе шлифовки. [53]
Если из-за неправильного производства работ верхний слой грунта нарушается на значительную глубину и имеет низкую прочность и высокую сжимаемость, то фундамент заглубляют до ненарушенного грунта или укрепляют нарушенный слой одним из методов, рассмотренных в гл. [54]