Электронное излучение - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 3
Оптимизм - это когда не моешь посуду вечером, надеясь, что утром на это будет больше охоты. Законы Мерфи (еще...)

Электронное излучение

Cтраница 3


В зависимости от свойств я-донора, характеристик электронного излучения и режимов последующих обработок получают негативный ( полимеризацией я-донора) или позитивный ( сублимацией не-полимеризующегося я-донора или его растворением слабополярным растворителем) микрорельеф. Рельеф имеет четкий край, разрешение лучше 1 мкм. Первоначальный слой - электропроводящий, а полученные негативные структуры - диэлектрики. При экспонировании наблюдают потерю слоем окраски, что делает возможным визуальный контроль. Хлоридные комплексы проявляют чувствительность примерно в 5 раз большую, чем бромидные. Чувствительность может быть повышена уменьшением содержания галогена в слое.  [31]

Электропроводность отвержденной пиромеллитовым диан-гидридом смолы после действия электронного излучения увеличивается на один порядок, а энергия активации при этом не изменяется.  [32]

Для препаративных целей наиболее часто применяют у-лучи и электронное излучение, так как а-частицы ( как и протоны и дей-тероны) имеют слишком малый пробег.  [33]

Следовательно, речь здесь не может идти об электронном излучении.  [34]

В большинстве случаев такими недостатками являются низкая чувствительность к электронному излучению, малая контрастность ( малая разрешающая способность) и высокая чувствительность к излучению в видимой части спектра.  [35]

В большинстве случаев такими недостатками являются низкая чувствительность к электронному излучению, малая контрастность ( малая разрешающая способность) и высокая чувствительность к излучению в видимой части спектра, В табл. VII.  [36]

37 Проникающая способность у и электронного излучения. [37]

Для сравнения рассмотрим электростатический генератор Ван-де - Граафа, который производит электронное излучение с энергией 1 5 Мэв и мощностью 2 5 кет.  [38]

Новые методы получения покрытий и з адсорбированных на подложке мономеров под действием электронного излучения или тлеющего разряда позволяют получать тонкие покрытия без применения растворителей, обладающие хорошими дн-электрич. Покрытия можно получать на металлич.  [39]

Для осуществления химических реакций в первую очередь представляют интерес у - и электронное излучения. По этим же причинам из рассмотрения исключаются протоны и дейтроны. Нейтроны обладают большой проникающей способностью, но они вызывают нежелательные ядерные реакции.  [40]

Ее можно повысить снижением ускоряющего напряжения, что соответствует теоретической зависимости распределения энергии электронного излучения от ускоряющего напряжения. Экспонирование на металлических подложках также подтверждает влияние природы подложки на распределение энергии излучения в резисте. По данным ДТА и ТГА, в интервале 150 - 170 С происходит структурирование полимера, разложение начинается при температуре выше 200 С, а полностью полимер деструктирует при 350 С. На основе этих результатов для предварительной термообработки рекомендован интервал температур 100 - 130 С, для доотверждения - 170 - 190 С, когда протекает дополнительное сшивание. Резисты этого типа были успешно испытаны для создания рельефов с размером элементов 1 - 3 мкм.  [41]

Это имеет то преимущество, что можно наблюдать сильно ионизирующие частицы в присутствии электронного излучения, которое иначе мешало бы измерениям.  [42]

Ее можно повысить снижением ускоряющего напряжения, что соответствует теоретической зависимости распределения энергии электронного излучения от ускоряющего напряжения. Экспонирование на металлических подложках также подтверждает влияние природы подложки на распределение энергии излучения в резисте. По данным ДТА и ТГА, в интервале 150 - 170 С происходит структурирование полимера, разложение начинается при температуре выше 200 С, а полностью полимер деструктирует при 350 С. На основе этих результатов для предварительной термообработки рекомендован интервал температур 100 - 130 С, для доотверждения - 170 - 190 С, когда протекает дополнительное сшивание. Резисты этого типа были успешно испытаны для создания рельефов с размером элементов 1 - 3 мкм.  [43]

Наличие в полишиффовых основаниях системы сопряжения приводит к делокализации энергии у - или электронного излучения.  [44]

Мы особо остановимся на бета-спектрометрах, с помощью которых изучается распределение по энергии электронного излучения ядер или атомов.  [45]



Страницы:      1    2    3    4