Cтраница 1
Влияние подложки, имеющее существенное значение и в случае малярных красок, является решающим для качества печатных оттисков. Подложкой для печатных красок служит бумага, от проклейки которой зависит степень ее проницаемости. [1]
Влияние подложек в дублете линза - асферика учитывают так же просто, как и в симметричном двухлинзовом объективе. Если подложки расположены между линзой и асферикой, то промежуток между этими элементами увеличивают с тем, чтобы эффективное расстояние было по-прежнему равно фокусному расстоянию дублета. Действительно, если в формулах (2.35) положить 1 / 0 и V Vz О, оказывается, что единственная поправка вносится в коэффициент второй комы, причем такого знака, что этот коэффициент уменьшается. В обоих случаях подложки не влияют на синусную дисторсию дублета. [2]
![]() |
Частотные характеристики - фототранзистора. [3] |
Влияние подложки на инерци - онность. [4]
Влияние подложки при наличии на входе логического О проявляется в том, что уменьшается входной ток за счет ответвления части базового тока в подложку. Ток, вытекающий из эмиттера Т1, уменьшается. [5]
Влиянием подложки интегрального транзистора пренебрегаем. [6]
Проанализировано влияние подложек на качество отпечатков. Этим влиянием объясняется то, что ведущие фирмы комплексно решают триединую проблему комплекс - композиция - акцепторный слой. При попадании на микропористую поверхность подложки растворитель под действием капиллярных сил начинает двигаться по системе микропор, увлекая за собой входящие в него компоненты. В случае двухфазной композиции микрочастицы пигмента не участвуют, в отличие от молекул, в многократных процессах сорбции и десорбции, в результате получаются отпечатки меньшего размера, чем в случае молекулярных композиций. От сорбционного взаимодействия компонентов молекулярной композиции с подложкой зависит скорость и расстояние их продвижения по подложке. [7]
Характер влияния подложки может быть различным. Полимер со столбчатой структурой характеризуется большей деформируемостью. [9]
Несколько специфично влияние подложки на структурирование полисилоксанов, в которых сетка отвержденного продукта состоит из микроучастков особо высокой плотности с редкими связями между ними. Это приводит к перенапряжениям на границе раздела. Структура тонких пленок полисилоксана ( 10 - 50 нм) на поверхности полупроводниковых кристаллов зависит от подготовки последних, но в толстых слоях ( 300 - 500 нм) основную роль играют условия силанирования. [10]
Аналогично, влияние подложки, кроме стабилизации скоплений атомов, приводит и к наследованию их расположения. В результате решетка зародыша ориентируется в пространстве так же, как и решетка подложки. Ориентирующее действие подложки захватывает большинство зародышей. Чтобы подчеркнуть этот факт, принято говорить, что возникла текстура зарождения. [11]
Несколько специфично влияние подложки на структурирование полисилоксанов, в которых сетка ( отвержденного продукта) состоит из микроучастков особо высокой плотности с редкими связями между ними, образующимися в результате циклизации. [12]
Итак, влияние подложек на структуру и свойства прилегающих слоев полимеров весьма разнообразно, а формы проявления этого влияния изучены достаточно подробно. [13]
С целью изучения влияния стальной подложки на измерительные характеристики привариваемых тензорезисторов были проведены опыты с использованием приваренных и наклеенных тензорезисторов в лабораторных условиях и параллельные измерения напряжений в производственных условиях. [14]
Подытоживая данные о влиянии подложки на отверждение полимеров, надо отметить, что некритический подход к оценке некоторых методов может привести к ошибочным выводам. [15]