Влияние - подложка
Cтраница 3
Общим для всех транзисторов интегральных схем является влияние подложки на их параметры, хотя характер этого влияния зависит от метода изоляции и технологии изготовления транзистора. В меньшей степени подложка влияет на параметры транзисторов с диэлектрической изоляцией. [31]
При лазерном напылении теллурида висмута на слюду влияние подложки и анизотропии скорости роста стимулируют одну ж ту же ориентацию ( 0001) Bi2Te3 ( 0001) слюды. Эта ориентация реализовалась в [178] при повышенных температурах подложки, лричем эпитаксиальные пленки с наиболее совершенной структурой были получены при температуре подложки 350 С. Для того чтобы выяснить, формируется ли совершенная структура пленки при этой температуре подложки непосредственно в процессе конденсации или же эта структура - следствие отжига конденсата на нагретой подложке, авторы [178] подвергли отжигу при 350 С пленки, напыленные при температуре подложки 20 С. В результате отжига мелкодисперсная неориентированная структура, характерная для этой температуры подложки, сохранялась. [32]
Рассмотрим, как вновь введенный фактор отбора ( влияние подложки) повлияет на установленные выше закономерности отбора. В этом случае рост происходит в условиях противоборства двух факторов. [33]
Толщина покрытия должна быть такой, чтобы исключить влияние подложки на излучательную способность эмали. Было установлено, что оптимальной толщиной для покрытия 26 является 0 177 - 0 200 мм. [34]
В симметричном, объективе особенно просто учесть и влияние подложек линз. На ходят эти значения из выражений (2.31) - (2.34) при соответ ствующих подстановках. [35]
 |
Зависимость большого периода привитого поливжнилиден-хлорида от величины большого периода подложки. [36] |
Таким образом, это исследование показало, что матричное влияние вытянутой подложки сказывается не только на общем направлении роста новых полимерных цепей, но, на первом этапе процесса, также и на периодичности фибриллярной структуры привитого полимера. [37]
Таким образом, при изготовлении печатных красок следует учитывать влияние подложки, на которую они будут наноситься, ее химический состав, величину рН ( что часто недооценивается), и, разумеется, способ печатания. [38]
 |
Поверхностный вискозиметр канального типа. [39] |
Канальный вискозиметр дает абсолютные значения вязкости и позволяет учитывать влияние подложки на течение пленки. Однако на нем нельзя проводить измерения ни при постоянном поверхностном давлении ( поскольку необходим градиент давления), ни при постоянной скорости сдвига. В данном методе определяется затухание колебаний крутильного маятника, дискового или кольцевого. [40]
В случае жидких прослоек подвижность молекул позволяет что под влиянием подложки тонкие граничные слои способны приобретать определенную ориентированную структуру, аналогично тому, как это происходит с жидкими кристаллами. Впрочем, удивляться надо скорее тому, что ориентирующее или эпитаксиальное действие подложки не ограничивается только одним-двумя молекулярными слоями, а простирается на сотни слоев. [41]
 |
Зависимость коэффициента трения от нагрузки при скольжении сферического индентора по инструментальной. [42] |
При взаимодействии первого вида ( рис. 4, а) влияние более твердой подложки, а следовательно, и толщины покрытия, на сопротивление трению отсутствует. Коэффициент трения такой же ( зона А), как и при скольжении твердого тела по массивному материалу покрытия. [43]
Следует заметить, что длительность стадии подготовки увеличивается с ростом коэффициента влияния подложки. [44]
 |
Различные формы капилляра в верхнем ( а - d и нижнем ( е, f слоях пленки. ( Объяснение в тексте. [45] |
Страницы: 1 2 3 4 5