Температура - кристалл - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Если бы у вас было все, где бы вы это держали? Законы Мерфи (еще...)

Температура - кристалл

Cтраница 1


1 Зависимость количества интерференционных полос от времени при нагревании кристалла Si в плазме CF4. Зондируется участок кристалла, покрытый защитной пленкой SiCb ( 1, 5. открытый участок кристалла ( 2, 4 -, на котором происходит уменьшение толщины. Мощность, вкладываемая в разряд ( Вт. 290 ( 1, 2 и 180 ( 3, 4 - Давление газа в реакторе 40 Па. [1]

Температуры кристалла в точках зондирования практически не отличаются вследствие высокой теплопроводности кремния.  [2]

Температура кристалла, при которой происходит выключение ИС, составляет 165 10 С.  [3]

Температура кристалла и защитного покрытия при сварке не должна превышать 125 С. Протекание через стабилитрон тока при сварке не допускается.  [4]

Температура кристалла и защитного покрытия при сварке не должна превышать 85 С.  [5]

Температура кристалла и защитного покрытия при пайке не должна превышать 125 С.  [6]

Температура плавлешш кристалла является той температурой, при которой кинетическая энергия составляющих его молекул ( или ионов) становится равной потенциальной энергии решетки, стремящейся удержать молекулы ( или ионы) в определенных фиксированных положениях решетки. Таким образом, удельная теплота плавления равна энергии, поглощенной при разрушении кристаллической решетки.  [7]

8 Элементарные ячейки кристалла К DP до и после перехода в сегнетоэлектрическое состояние ( я ( / - F4d2, / / - - - - - - Fdd2, полярная. [8]

Температура Кюри кристаллов KDP равна - 151 С. Полярной осью является ось е тетрагонального кристалла.  [9]

Повышение температуры кристалла усиливает генерацию неосновных носителей, поэтому увеличивается обратный ток, При увеличении обратного тока в свою очередь растет мощность, температура перехода еще более повышается, что в конечном счете приводит к разрушению р-п перехода и выходу прибора из строя. Этот вид пробоя, приводящий к разрушению прибора, является наиболее нежелательным.  [10]

Повышение температуры кристалла приводит к увеличению амплитуды колебаний составляющих его частиц, к увеличению расстояния между узлами ( расширение тела при нагревании) и, следовательно, к ослаблению сил сцепления. От этого случаи оставления частицами своего узла становятся все более частыми, и при некоторой температуре, называемой точкой плавления, исчезает упорядоченность в размещении центров колебаний, решетка разрушается и кристалл плавится.  [11]

Повышение температуры кристалла усиливает генерацию неосновных носителей, поэтому увеличивается обратный ток. При увеличении обратного тока в свою очередь растет мощность, температура перехода еще более повышается, что в конечном счете приводит к разрушению р-п перехода и выходу прибора из строя. Этот вид пробоя, приводящий к разрушению прибора, является наиболее нежелательным.  [12]

При изменении температуры кристалла перемещаются точки пересечения эллипсоида вращения со сферой, что приводит к соответствующему изменению направления синхролиза.  [13]

Отмеченные изменения температуры кристаллов в процессе растворения имеют также большое значение в калориметрии при установлении тепловых эффектов растворения.  [14]

Для измерения температуры кристалла можно использовать термопару медь-константан, которую устанавливают на выходе холодной струи. Было бы идеальным разместить эту термопару на самом кристалле, но это не очень удобно, хотя измерения можно выполнить до проведения рентгеновского эксперимента и затем построить калибровочную кривую с учетом температурного перепада от кристалла до конца подводящей трубки с охлаждающей струей. На самом деле точная температура не имеет особого значения при структурном анализе; достаточно хорошую оценку температуры можно получить с помощью термопары, расположенной в охлаждающей струе.  [15]



Страницы:      1    2    3    4