Травление - кремний
Cтраница 1
Травление кремния происходит, конечно, и в смесях щелочи с окислителями, например перекисью, однако никаких преимуществ по сравнению с чистой щелочью эти составы не имеют и применяются поэтому редко. Этот травитель, как и большинство других, является селективным. [1]
Травление кремния ведут в водных растворах плавиковой кислоты, в смеси плавиковой и уксусной кислот ( 1: 1), в 10 % - ном растворе HF в этиловом спирте и др. Электролитом для полирования кремния служит 0 5 - 3 % - ная плавиковая кислота с 30 % глицерина. [2]
Травление кремния ведут в водных растворах плавиковой кислоты, в смеси плавиковой и уксусной кислот ( 1: 1), в 10 % - ном растворе HF в этиловом спирте и др. Электролитом для полирования кремния служит 0 5 - 3 % - ная плавиковая кислота с 30 % глицерина. [3]
 |
Травильные составы для изоляционных материалов. [4] |
Для травления кремния используют смесь растворов плавиковой, азотной и уксусной кислот. На рис. 3.102 показана скорость травления для указанной трехкомпонентной систе мы и для системы, содержащей вместо уксусной кислоты воду. [5]
Для травления кремния используют различные сочетания азотной и плавиковой кислоты. С увеличением относительного содержания плавиковой кислоты скорость - правления возрастает, но кислотоустойчивость фоторезиста надает. [6]
Скорость травления кремния в серебряно-гликолевом травителе показана на фиг. [7]
Принцип травления кремния и германия основан на окислении их поверхности и последующем удалении этих окислов, поэтому в состав травителей должны входить вещества, окисляющие поверхность этих материалов и растворяющие образовавшиеся окислы. Кроме того, в травители вводят компоненты, назначением которых является ускорение или замедление реакции травления. После травления кристаллы тщательно промывают, а затем сушат. [8]
 |
Смеси на основе плавиковой и азотной кислот для обработки кремния. [9] |
С увеличением концентрации скорость травления кремния в растворе NaOH увеличивается, однако при увеличении концентрации NaOH в растворе свыше 30 % скорость травления не возрастает. Поэтому для травления кремния применяют растворы, содержащие от 10 до 30 % NaOH или КОН. [10]
Еще более низкие температуры травления кремния обеспечивает иодоводород в смеси с водородом 80 % ( объемн. При 900 С и концентрации иодоводорода около 1 % ( объемн. При концентрациях фтороводорода свыше 1 2 % ( объемн. [12]
Сложной и еще мало изученной является технология травления кремния. При существующих методах травления кремния не удается получать малые значения скорости поверхностной рекомбинации. Если для поверхности германия вполне реально снижение скорости поверхностной рекомбинации до 200 см / сек, то для кремния эти величины находятся в пределах от 2000 - 10000 см / сек. Возможно травление кремния и в травителе АПУ, но, учитывая, что кремний травится более медленно, уксусная кислота, играющая роль замедлителя, не требуется. Травитель для кремния, получивший наименование АгП ], состоит из двух частей азотной и одной части 42 % плавиковой кислот. Азотная кислота играет роль окислителя. [13]
Однако перекись водорода не может быть использована для травления кремния, так как не взаимодействует с ним. В табл. 2 приведены составы некоторых полирующих и селективных травителей для кремния. [14]
Рассмотрены причины несовпадения экспериментальных и рассчитанных по диффузионной модели скоростей роста и травления кремния. Проведенные эксперименты по моделированию равновесия роста - травления в потоке показали, что входные составы газовой смеси ( S1C14 - НС1 - Н2), соответствующие нулевой скорости роста кремния, отличаются от термодинамически равновесного состава газовой фазы для системы кремний - хлор - водород. Найдено, что при расчете скоростей роста и травления по диффузионной модели минимальные расхождения с экспериментом имели место, если в расчетных соотношениях термодинамический равновесный состав газовой смеси заменить равновесным составом, определенным для реальных условий, и в случае травления ввести поправку, учитывающую меньшую толщину пограничного слоя для дихлорида кремния. [15]
Страницы: 1 2 3 4