Анодное травление

Cтраница 4

Анодное травление сталей производится в растворах серной кислоты или в подкисленных растворах солей железа. Скорость травления увеличивается с повышением плотности тока и температуры. При очень высоких плотностях тока может наступить пассивирование, тогда металл будет предохранен от разъедания на освобожденных от окалины участках. Обычно применяют 5 - 20-процентные растворы серной кислоты. Растворы, содержащие соли трехвалентного железа, способствуют быстрому удалению ржавчины и окалины потому, что явления пассивирования металла здесь затруднены. [46]

Влияние интенсивности анодного травления на структуру поверхности и поперечное сечение хрома, электроосажден-ного при 60 С ( 125Х. [47]

Последующее анодное травление для получения пористого хромирования осуществляют в том же стандартном электролите, что и при обычном хромировании. Продолжительность анодного травления зависит от намечаемой глубины каналов и с учетом толщины слоя колеблется. Глубина каналов прямо пропорциональна их ширине и для хорошей маслоемкости должна составлять от 0 25 до 0 5 толщины слоя хрома. [48]

Анодное травление изделий производят в растворе хромовой кислоты. [49]

Химическое и анодное травление для снятия окислов с поверхностей деталей позволяет улучшить сцепление покрытий с металлом детали. [50]

Анодное травление черных металлов обычно осуществляется в растворе серной кислоты, требуемая концентрация которой обратно пропорциональна интенсивности травления. Плотность анодного тока и время обработки увеличиваются при необходимости более глубокого травления, причем на анодах происходит выделение газа. Травление меди можно производить при высоких плотностях анодного тока в растворах смесей хлоридов; этот процесс широко применяется при изготовлении печатных плат. [51]

Анодное травление кристаллов электронных полупроводников происходит чрезвычайно медленно и поэтому редко применяется на практике. Возможно, однако, электролитическое травление п области полупроводникового прибора. Последнее связано с выделением атомарного кислорода на подведенном к п области металлическом выводе. Выделяющийся атомарный кислород окисляет близлежащие участки поверхности прибора, которые затем растворяются в электролите. [52]

Сравнение результатов испытания в кипящей 65 % HNOa и травления в 10 % щавелевой кислоте ( 30 мин, 0 16 а / см2, 7 0 в. [53]

Анодному травлению при указанном выше режиме подвергаются границы зерен не только с карбидами хрома, но также и с карбидами титана иди ниобия. [54]

Анодному травлению обычно подвергают изделия, имеющие несложную конфигурацию, в противном случае они травятся неравномерно. [55]

Различают анодное травление и катодное - травление. [56]

Страницы: 1 2 3 4