Уровень - инжекция - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 4
Русские называют доpогой то место, где собиpаются пpоехать. Законы Мерфи (еще...)

Уровень - инжекция

Cтраница 4


Кроме этого, нужно учитывать также и изменение эффективности эмиттера с ростом уровня инжекции.  [46]

Прохождение через полупроводниковый диод больших токов, как правило, сопровождается повышением уровня инжекции, по крайней мере в некоторых частях базы диода.  [47]

48 Распределение концентра -. ции неосновных и основных носителей в базе диода при прямом его-включении. [48]

Прохождение через полупроводниковый диод больших токов, как правило, сопровождается повышением уровня инжекции по крайней мере в некоторых областях диода.  [49]

50 Зависимости пробив - Рп - Рпо - & Рп С яо. [50]

Прохождение через полупроводниковый диод больших токов, как правило, сопровождается повышением уровня инжекции, по крайней мере, в некоторых частях базы диода.  [51]

Такие процессы, особенно заметные в кремниевых транзисторах, увеличиваются при снижении уровня инжекции.  [52]

В [21] показано, что биполярная подвижность з компенсированных полупроводниках с ростом уровня инжекции может сначала уменьшаться до нуля, затем менять знак на противоположный и далее, проходя опять через нуль, возрастать.  [53]

Можно видеть, что / 2 ( z) линейно возрастает с возрастанием уровня инжекции, что свидетельствует о возрастании объемных рекомбинационных потерь. Таким образом, потери на поверхностную рекомбинацию падают с ростом уровня инжекции.  [54]

Влияние внутреннего поля при высоких уровнях инжекции удобно учитывать, вводя коэффициент г, характеризующий уровень инжекции.  [55]

56 Расчетные зависимости среднего времени жизни Т неосновных носителей заряда в поликристалле Si от размера d кристаллитов и плотности пограничных состояний Nis dNgb / dE при ND 1016 см 3 ( а. Резкий начальный спад Т связан с увеличением Vrf ( на свету при росте JV-S ( а и среднего времени жизни Г неосновных носителей заряда от Nn и размера кристаллитов при Njs 1012 см-2 - эВ 1 ( б [ Card H. С., Yang E. S. / / IEEE Trans on Electron. Devices, 1977, vol. 24 ]. [56]

При решении уравнения переноса заряда (6.28) представляет собой нелинейное граничное условие, зависящее от уровня инжекции.  [57]

Прямое напряжение на диоде в начальный период времени определяется падением напряжения на га-базе, когда уровень инжекции в га-базе еще низкий и приближенно равен / Fmpn n / S. Оно может быть достаточно большим при больших значениях прямого тока и намного превышает сумму падений напряжения на р - п и п - п переходах структуры. Затем падение напряжения на га-базе уменьшается вследствие модуляции проводимости га-базы.  [58]

Здесь произведение в квадратных скобках можно считать эквивалентным коэффициентом диффузии, величина которого зависит от уровня инжекции.  [59]

Величина падения напряжения на приконтактной области зависит от скорости рекомбинации дырок на антизапорном контакте и с увеличением уровня инжекции падает.  [60]



Страницы:      1    2    3    4    5