Cтраница 5
Вместо металлической фольги в качестве основы маски может быть взята тонкая пластинка из фотоситалла. После облучения через фотошаблон те места фотоситал-ловой пластинки, на которые попал свет, приобретают большую скорость растворения в травителях, чем необлученные. В результате после обработки фотоситалло-вых пластин в травителях образуется маска, имеющая прорези и отверстия в облученных местах. При толщине маски 50 - 100 мк отклонение отверстий от заданных номиналов составляет 25 мк. [61]