Фотошаблон

Cтраница 1

Фотошаблон в масштабе 1: 1 или с уменьшением проецируется на полупроводниковую пластину с фо-торезистивным слоем. [1]

Фотошаблон может быть изготовлен путем воздействия электронного луча на стеклянную заготовку, покрытую хромом и фоторезистом. При этом методе изготовления фотошаблонов обычные процессы экспонирования светом ( например, процессы, применяемые при изготовлении оригиналов, копировании оригинала на пленку, уменьшении и мультиплицровании) заменяются процессом экспонирования электронным лучом. [2]

Фотошаблоны и оборудование для их производства. [3]

Основные параметры фоторезистов. [4]

Фотошаблоны - стеклянные пластины или полимерные пленки со сформированным на их поверхности рисунком элементов схем из материала, не пропускающего актиничного излучения. Система элементов на фотошаблоне образует топологию одного из слоев структуры прибора или микросхемы. [5]

Фотошаблоны изготовляют путем уменьшения фотографическим способом чертежа, который выполнен с таким увеличением, что его дефекты становятся несущественными в уменьшенной копии. Трудности в изготовлении фотошаблона возникают только тогда, когда максимальные размеры рисунка в 1 000 раз превышают его минимальные размеры. Однако сверхпроводящие устройства состоят из повторяющихся с высокой точностью структур, которые равномерно распределены по площади подложки. Это позволяет делать чертеж только для повторяющейся части структуры, после чего можно размножить ее изображение и получить полный рисунок фотошаблона. [6]

Фотошаблоны изготовляются непосредственно на фабрике, для чего на деревянную раму натягивают капроновое сито, обезжиривают его и обе стороны сита покрывают ровным слоем светочувствительной эмульсии. [7]

Фотошаблоны для контактной печати представляют собой точное отображение рисунка, который необходимо получить травлением. Из-за малых размеров рисунка, необходимого к воспроизведению, первоначально он изготавливается в значительно увеличенном масштабе. Затем он уменьшается до конечных размеров в одну или несколько операций фотографическими методами. Почти во всех случаях размеры подложки значительно больше конечных размеров изображения схем. Поэтому самым экономичным является воспроизведение оригинала изображения несколько раз с целью образования матрицы рисунков, и тогда большое количество кристаллов микросхем или модулей идентичной конфигурации можно изготовить на одной подложке всего за одну операцию контактной печати. [8]

Фотошаблоны представляют собой плоские стеклянные пластины, на одну поверхность которых нанесен слой проявленной фотоэмульсии. [9]

Фокусатор в кольцо.| Результат фокусировки 2-мя скрещен-цилиндрическими. [10]

Фотошаблон такого фокусатора показан на рис. 1.14, а на рис. 1.15 показан процесс фокусировки. [11]

Оригинал ( и и промежуточный негатив ( б.| Камера для фотографирования оригинала. [12]

Фотошаблоны, входящие в комплект одной ИС, изготовляют на одном механическом устройстве, чтобы свести к минимуму ошибку шага при перемещении по осям X и У. [13]

Фотошаблон представляет собой фотокопию оригинала интегральной микросхемы, выполненную на прозрачном материале в масштабе 1: 1 по отношению к размерам микросхемы. Ось фотокамеры устанавливается перпендикулярно плоскости чертежа. [14]

Фотошаблон представляет собой толстую стеклянную пластину, на одной из сторон которой нанесена тонкая непрозрачная пленка с необходимым рисунком в виде прозрачных для света участков-окон. Эти окна в масштабе 1: 1 соответствуют будущим элементам ИС. Поскольку ИС изготавливаются групповым методом, на фотошаблоне разрешается множество однотипных рисунков. Размер каждого рисунка соответствует размеру будущего кристалла ИС. [15]

Страницы: 1 2 3 4 5