Cтраница 2
![]() |
Линзоворастровый способ фотошаблона. [16] |
Фотошаблоны можно изготовлять линзоворастровым методом. Линзовый растр представляет собой множительную оптическую систему, состоящую из большого числа маленьких линз, размещенных по определенному закону на одной основе, имеющей вид плоскопараллельной пластины. Таким образом, линзовый растр позволяет получить от одного экспонируемого предмета большое количество его фотоизображений. Этим методом можно получить позитивные или негативные изображения. [17]
Фотошаблоны в процессе изготовления контролируют как по контрастности изображения, так и по линейным размерам. Геометрические размеры элементов печатного монтажа на фотооригинале ( фотошаблоне) следует корректировать в зависимости от выбранного технологического процесса производства ПП и установленных технологических допусков. [18]
Фотошаблон представляет собой оптическое стекло с позитивным или негативным штриховым ( без полутонов) изображением деталей элементов ИС в зависимости от типа используемого фоторезиста. [19]
Фотошаблоны представляют собой негативное изображение печатной платы в масштабе 1: 1, выполненное на безусадочной фототехнической пленке ФТ-ЗШ или ФТ-41П или на особо контрастных фотопластинках из органического стекла, винипроза и других материалов. Изображение печатного монтажа на фотошаблонах должно быть черно-белым и контрастным. Контрольный экземпляр, предназначенный для размножения рабочих фотошаблонов, должен изготовляться только на силикатных фотопластинках. [20]
![]() |
Схема совмещения и проекционногб экспонирования. [21] |
Фотошаблон - образец ( шаблон), несущий информацию о конфигурации, размерах и взаиморасположении элементов того или иного слоя ИМС. [22]
![]() |
Схема операции совмещения и контактного экспонирования.| Схема совмещения и проекционного экспонирования. [23] |
Фотошаблон - это образец, несущий информацию о конфигурации, размерах и взаиморасположении элементов того или иного слоя ИМС. Он необходим практически для проведения любого процесса фотолитографии. В принципе фотошаблон может быть изготовлен из любого непрозрачного для УФ излучения материала, в котором можно было бы создать прозрачные участки в соответствии с конфигурацией требуемого рисунка слоя ИМС. [24]
![]() |
Нанесение рисунка схемы методом трафаретной печати. [25] |
Фотошаблон выполняют на безусадочной основе: на фотопленках типа ФТ-31, ФТ-30, ФТ-40, ФТ-41, СК, ФТ-101, ЭФДФ-ЗМ на особоконтра-стных фотопластинках и оргстекле толщиной 0 5 - 3 0 мм. [26]
Фотошаблон - негативное или позитивное изображение оригинала, выполненное на прозрачном материале путем фотографирования с высокой степенью точности. Изображение рисунка микросхемы на фотошаблоне получают в масштабе 1: 1 неоднократным фотографированием с уменьшением. Процесс получения фотошаблона с размноженным изображением называется мультиплицированием. Для изготовления фотошаблонов применяют фотопластинки с разрешающей способностью до 1200 линий на миллиметр и высокоразрешающую оптику. В настоящее время получают элементы микросхем размером 0 7 - 0 4 мкм ( предел разрешающей способности оптически. [27]
Фотошаблон представляет собой толстую стеклянную пластину, на одной из сторон которой нанесена тонкая непрозрачная пленка с необходимым рисунком в виде прозрачных для света участков-окон. Эти окна в масштабе 1: 1 соответствуют будущим элементам ИС. Поскольку ИС изготавливаются групповым методом, на фотошаблоне разрешается множество однотипных рисунков. Размер каждого рисунка соответствует размеру будущего кристалла ИС. [28]
Фотошаблоны для применения в печатных процессах. При фоторельефпой печати инструментом служит рабочий фотошаблон, содержащий непрозрачный рисунок проводников или пробельных участков в натуральную величину. При изготовлении трафарета для трафаретной печати также необходим фотошаблон. В общем случае применяют комплект фотошаблонов, совмещаемых друг с другом с высокой точностью. [29]
![]() |
Оборудование фотолитографической желтой комнаты в современной чистой комнате. [30] |