Cтраница 3
Таким образом, соли диазония и хинондиазиды оказываются связанными между собой протолитическими отношениями. [31]
Кратковременное экспонирование композиции, достаточное для превращения хинондиазида в инденкарбоновую кислоту, дает после щелочного проявления нормальное позитивное изображение. После десятикратной экспозиции через тот же контактный шаблон и последующего кратковременного облучения всего слоя первоначально засвеченные участки уже не способны растворяться в щелочи в отличие от остального слоя, что при щелочном проявлении дает негативное изображение оригинала. Это происходит потому, что нитрон при длительном фотолизе сшивает компоненты слоя, что приводит к эффекту обращения. Разработка рекомендована для создания очень контрастных рельефов в микроэлектронике. Подложкой служит слой висмута толщиной примерно 150 мкм с оптической плотностью 4, напыленной в вакууме на пленку поли-этилентерефталата толщиной 0 1 мм. Травитель - 12 % - ный раствор РеС13, содержащий 1 % лимонной кислоты. [32]
Кратковременное экспонирование композиции, достаточное для превращена хинондиазида в инденкарбоновую кислоту, дает после щелочного проявлена нормальное позитивное изображение. После десятикратной экспозиции чере; тот же контактный шаблон н последующего кратковременного облучения всег слоя первоначально засвеченные участки уже не способны растворяться в ще лочи в отличие от остального слоя, что при щелочном проявлении дает нега тивное изображение оригинала. Это происходит потому, что нитрон при дли тельном фотолизе сшивает компоненты слоя, что приводит к эффекту обра щения. Разработка рекомендована для создания очень контрастных рельефо; в микроэлектронике. Подложкой служит слой висмута толщиной примерш 150 мкм с оптической плотностью 4, напыленной в вакууме на пленку поли этилентерефталата толщиной 0 1 мм. Травитель-12 % - ный раствор РеСЦ, со держащий 1 % лимонной кислоты. [33]
Наконец, необходимо отметить термолиз и фотолиз хинондиазидов в среде галогенуглеводородов. [34]
Следует указать, что наличие в молекуле хинондиазида диалкиламиногруппы также придает молекуле достаточно большую основность и обеспечивает возможность солеобразования. [35]
В качестве проявителя экспонированных позитивных резистов на основе хинондиазидов, фенолофор-мальдегидпых и других смол используют водные растворы оснований, например: 0 4 % - iibu i рае mop КОН, 3 % - ныи раствор Na: iPO4; 7 % - нын раствор метасп. [36]
В мировой практике синтеза позитивных фоторезистов на основе хинондиазидов используются простейшие хинондиазиды нафталинового ряда. Не уступающие им по многим показателям производные бензола оказались гораздо менее устойчивыми. [37]
Нами установлено, что 2-оксиарилгидразины легко получаются восстановлением хинондиазидов хлористым оловом в концентрированной соляной кислоте. Условия ( время, температуру, растворитель) в каждом случае следует подбирать особо. [38]
Среди соединений, применяемых для получения печатных форм, хинондиазиды являются наиболее важной и многочисленной группой. С их помощью могут быть изготовлены печатные формы различного назначения как позитивные, так и негативные. Возможность применения хинондиазидов для получения рельефных изображений основана на своеобразных фотохимических процессах, происходящих при действии света на эти соединения. [39]
Хиной ( Бензохинон) 101, 237, 287 Хинондиазиды 217 Хинондиимин 249, 408 п - Хинонимин 408 Хинонметановые системы 184 Хинонметид 301 Хиноноксимы 250, 411 Хиноны 287, 401 ел. [40]
Среди соединений, применяемых для получения печатных форм, хинондиазиды являются наиболее важной и многочисленной группой. С их помощью могут быть изготовлены печатные формы различного назначения как позитивные, так и негативные. Возможность применения хинондиазидов для получения рельефных изображений основана на своеобразных фотохимических процессах, происходящих при действии света на эти соединения. [41]
По-видимому, перспективна возможность получения при помощи n - хинондиазидов печатных форм на основе задубленных полимеров. [42]
Для изготовления печатных форм предложены многие не растворимые в воде хинондиазиды, преимущественно производные карбоновых и сульфокислот о - и n - аминофенолов бензольного, нафталинового и гетероциклического рядов. [43]
В мировой практике синтеза позитивных фоторезистов на основе хинондиазидов используются простейшие хинондиазиды нафталинового ряда. Не уступающие им по многим показателям производные бензола оказались гораздо менее устойчивыми. [44]
Изучение механизма реакци показывает, что в этом случае от хинондиазида ( 75) под влияние. [45]