Интенсивность - дифракционный максимум
Cтраница 3
За рассеяние рентгеновских лучей, попадающих в кристалл, ответственны электроны атомов кристалла. Интенсивность дифракционных максимумов рассеяния определяется плотностью электронов в атомах тех кристаллических плоскостей, от которых происходит рассеяние. Расшифровывая картину дифракционных максимумов, кристаллографы устанавливают расстояние между плоскостями кристалла, степень их заполнения атомами, размеры элементарной ячейки и получают полное представление о структуре кристалла. Исследование с помощью дифракции рентгеновских лучей белков и других биохимически важных веществ принесло огромную пользу при установлении их строения. Классическим примером возможностей рентгеноструктурного метода является расшифровка с его помощью строения столь сложного вещества, как дезокси-рибонуклеиновая кислота ( см. гл. [31]
При прохождении света через магнитную решетку возникают дифракционные явления, обусловленные эффектом Фарадея. Получены выражения интенсивностей дифракционных максимумов для бинар ных и синусоидальных магнитных решеток, причем в последнем случае они выражаются через бесселевы функции целого порядка. [32]
Однозначно определить тип упорядочения неметаллических атомов можно с помощью методов дифракции электронов или нейтронов. В обоих методах интенсивность дифракционного максимума не зависит от квадрата атомного номера, и позицию атомов неметалла можно определить по дифрактограммам. Однако получить электронную дифрактограмму трудно: необходимы пленочные реплики, процедура приготовления которых сложна из-за хрупкости и пористости материалов и отсутствия специальных методик утончения образцов. [33]
 |
Электронограмма от препарата РЬТе.| Электронограмма от. [34] |
Последовательность дифракционных максимумов и минимумов возникает при наличии в исследуемом объекте набора повторяющихся межатомных расстояний. В результате теплового движения интенсивность дифракционных максимумов и минимумов уменьшается с увеличением угла рассеяния. [35]
Это уже было показано при рассмотрении влияния тепловых колебаний атомов на интенсивность дифракционных максимумов. [36]
Аналогичное влияние, вероятно, оказывает увеличение содержания ацетильных групп в поливиниловом спирте. При возрастании их содержания с 0 3 до 3 % значительно уменьшается интенсивность дифракционных максимумов, а поливиниловый спирт, содержащий 15 мол. [37]
 |
Спектральная зависимость коэффициента оптического поглощения. 1 - 3 мк - Si, полученного методом молекулярно-лучевого осаждения ( температура подложки, С. [38] |
Обнаружено, что при повышении температуры подложки Гподл растет интенсивность отражения ( 220), интенсивность других дифракционных максимумов падает с одновременным уменьшением их полуширины. [39]
Картину электронной дифракции - электронограмму - получают как на просвет от образца толщиной порядка нескольких десятков нанометров, так и на отражение от плоского образца, поставленного так, что электронный луч практически скользит по его поверхности, образуя с ней угол в несколько минут. Благодаря чрезвычайно сильному рассеянию электронов при почти полном отсутствии поглощения, а также использованию при получении электронограмм почти всей мощности электронного пучка интенсивность дифракционных максимумов электроно-граммы очень высокая. [40]
На следующем этапе исследования анализируют дифракционную картину и расчетным путем устанавливают взаимное расположение частиц в пространстве, вызвавшее появление данной картины. Расчет электронной плотности внутри элементарной ячейки и определение координат атомов, к-рые отождествляются с положением максимумов электронной плотности; эти данные получают анализом интенсивности дифракционных максимумов. [42]
Степень несовершенства естественного и синтетического кристалла различна. Идеальный несовершенный кристалл должен содержать небольшие мозаичные блоки размером порядка 10 - 5 см, отклонения от правильной ориентировки этих блоков не более нескольких дуговых минут относительно друг друга. Интенсивность дифракционных максимумов таких кристаллов значительно больше. Примерами таких несовершенных кристаллов являются кристаллы галоидов щелочных металлов, таких, как LiF или NaCl. Кристалл кварца более совершенен, но количество мозаики можно увеличить легкой шлифовкой его поверхности. Как отмечено в табл. 8, интенсивность дифракционных максимумов для жесткого излучения можно удвоить полировкой поверхности кристалла. Бирке [15] утверждает, что умышленное введение упругих или пластических напряжений в данный кристалл обычно увеличивает и. Уайт [23], например, показал, что интенсивность максимумов кристалла кварца с упругими напряжениями увеличивается в 12 раз. [43]
 |
Концентрационные зависимости DI ф для полиалкилметакрилатов ПМА-4 ( а. ПМА-10 ( б. ПМА-18 ( а. ПМА-22 ( г. [44] |
Следует отметить, что такой характер изменения изотерм сорбции наблюдается для всех исследованных гребнеобразных полимеров, независимо от их исходного фазового состояния. Из сравнения S при p / ps0 5 можно высказать предположение, что при этой активности пара и температуре эксперимента ПМА-18 переходит в аморфное состояние. Сопоставление характера изменения интенсивности дифракционных максимумов для образцов, содержащих сорбаты, с изотермой сорбции подтверждает плавление кристаллической фазы ПМА-18 и ПМА-22, происходящее при их насыщении диффузантом. Таким образом, для образцов ПМА-18 и ПМА-22 на изотермах сорбции можно выделить две области состава, в которых фазовое состояние гребнеобразных полимеров различно: p / ps0 5 - полимеры частично кристаллические, при p / / os0 5 - - растворы полимера находятся в аморфном состоянии. [45]
Страницы: 1 2 3 4