Остаточное давление - порядок
Cтраница 2
 |
Образование шейки на затравке. [16] |
В рабочем пространстве установки создается вакуум при остаточном давлении порядка 10 - 5 мм рт. ст. После расплавления загруженного в тигель материала и некоторого его перегрева для удаления газов и летучих примесей в расплаве устанавливается температура немного выше температуры плавления. Постепенным опусканием штока затравочный кристалл вводится в расплав и выдерживается в нем, пока конец затравки не оплавится и не установится тепловое равновесие в системе расплав - кристалл. Шток с затравкой начинают затем медленно поднимать со скоростью в пределах от нескольких десятых до 1 - 2 мм / мин. В области более низких температур над поверхностью расплава тянущийся за затравкой расплав затвердевает, приобретая структуру затравки. [17]
 |
Образование шейки на затравке. [18] |
В рабочем пространстве установки создается вакуум при остаточном давлении порядка 10 - 5 мм рт. ст. Посл е расплавления загруженного в тигель материала и некоторого его перегрева для удаления газов и летучих примесей в расплаве устанавливается температура немного выше температуры плавления. Постепенным опусканием штока затравочный кристалл вводится в расплав и выдерживается в нем, пока конец затравки не оплавится и не установится тепловое равновесие в системе расплав - кристалл. Шток с затравкой начинают затем медленно поднимать со скоростью в пределах от нескольких десятых до 1 - 2 мм / мин. В области более низких температур над поверхностью расплава тянущийся за затравкой расплав затвердевает, приобретая структуру затравки. [19]
Показано, что при работе под вакуумом ( остаточное давление порядка 150 мм рт. ст.) скорость десорбции углеводородов увеличивается практически вдвое. [20]
В средней части десорбера 12 поддерживается разрежение ( остаточное давление порядка 0 2 атм) и температура 60 - 70 С. В этих условиях происходит практически полное выделение ацетилена из раствора. Выделившийся концентрированный ацетилен, содержащий некоторое количество ацетиленовых углеводородов, отсасывается вакуум-насосом 19 через конденсатор 9 де-оорбера второй ступени, где конденсируются пары растворителя. [21]
 |
Внешний вид тигля с загрузкой из технического карбида. [22] |
Вакуумная система установки позволяет производить откачку печи до остаточного давления порядка 10 - 5 мм рт. ст. при температуре 2000 С. Это обеспечивает высокую степень чистоты рабочего объема, необходимой для выращивания полупроводниковых монокристаллов карбида кремния. [23]
Характеристика пластинчато-роторных масляных вакуум-насосов малой производительности, способных поддерживать остаточное давление порядка 0 65 Па, приведена в табл. IX.3. Насосы имеют воздушное охлаждение и работают на масле ВМ-4 или ВМ-6. Характеристики отечественных ротационных вакуум-насосов приведены в табл. IX.4; все они имеют масляное уплотнение. [24]
Вакуумная изоляция путем создания в изолирующем пространстве высокого вакуума с остаточным давлением порядка 1 - 10 - 5 - 1 - Ю-6 мм рт. ст. Основная передача тепла происходит излучением и практически не зависит от толщины изоляционного пространства. [25]
В настоящее время при сушке и пропитке многих типов конденсаторов достигают остаточного давления порядка 10 2 - 10 4 ммрт. Такой же высокий вакуум используется и при дегазации пропиточной жидкости перед пропиткой конденсаторов. [26]
 |
Масс-спектр газов, выделяющихся в процессе раскалывания отожженного пиролитического графита. [27] |
В случае отожженного при 3000 С в атмосфере инертного газа пиролитического графита остаточное давление порядка 10 - 9 мм рт. ст. было достигнуто очень быстро. Как видно из сравнения этих спектров, основным соединением, выделяющимся при раскалывании отожженного графита, является вода. [28]
Так как печь предназначена для получения материалов высокой чистоты и должна иметь остаточное давление порядка 10 - 5 мм рт. ст., кожухи, крышки, днище и откачной патрубок изготовлены из нержавеющей стали. [29]
 |
Зависимость емкости и угла потерь образца сухой бумаги от температуры при двух частотах. [30] |
Страницы: 1 2 3 4 5