Покрываемая деталь
Cтраница 2
При контактном методе покрываемую Деталь погружают в раствор, содержащий ионы металла с бо льшим значением потенциала, чем металл детали, и восстановление покрытия происходит только за счет разности потенциалов, возникающих между покрываемым металлом и ионами осаждаемого металла из раствора. [16]
 |
Установка с четырьмя погружаемыми колокслами. [17] |
Подвод тока к покрываемым деталям осуществляется через специальные контактные кнопки, расположенные с внутренней стороны барабана. Загрузка и разгрузка барабана производятся обычно через одну из открывающихся граней. [18]
 |
Схема установки для испарения металлов в вакууме. [19] |
Конструкция приспособлений, поддерживающих покрываемые детали, меняется в зависимости от характера деталей. [20]
 |
Схема герметичного аппарата для обезжиривания в конденсирующихся парах негорючих органических растворителей. [21] |
Для завешивания анодов и покрываемых деталей на бортах ванн укладывают штанги, представляющие собой отрезки медных труб или стержней, к которым подводят ток от источника тока. [22]
Для завешивания анодов и покрываемых деталей на бортах электролизеров укладывают штанги, представляющие собой от резки медных труб или стержней, к которым подводят ток от источника тока. Обычно устанавливают две анодных штанги и одну катодную, расположенную между ними. Для электролизеров большой емкости применяют три анодных и две катодных штанги. [23]
 |
Схема герметичного аппарата для обезжиривания в конденсирующихся парах негорючих органических растворителей. [24] |
Для завешивания анодов и покрываемых деталей на бортах ванн укладывают штанги, представляющие собой отрезки медных труб или стержней, к которым подводят ток от источника тока. [25]
 |
Зависимость выхода осадка от концентрации стабилизатора ( t / 2Q e. t 5 сек. 1 - HN03. 2 - НС1. 3 - А1 ( М0з 3. [26] |
В процессе электрофоретического осаждения покрываемую деталь включают в электрическую цепь в качестве катода или анода в зависимости от того, какой знак имеют дисперсные частицы. Противоэлектродом обычно служит корпус ванны, в которой проводят осаждение. Для предотвращения оседания частиц на дно ванны необходимо слабо перемешивать суспензию. Параметры процесса - напряженность поля и время осаждения подбирают для каждой конкретной системы в зависимости от природы дисперсионной среды и твердой фазы, электропроводности суспензии, размера частиц и величины их поверхностного заряда, требуемой толщины покрытия. Напряжение поля не должно быть слишком велико, так как в этом случае осадок получается неоднородным, с крупными порами, вздутиями и трещинами. [27]
 |
Общий вид лабораторной установки для получения покрытий.| Лабораторная безынерционная печь комплекта ЛАБ-2. [28] |
Нагревательные устройства должны обеспечивать нагрев покрываемых деталей выше температуры плавления полимера и сплавление нанесенного на них порошка. [29]
При горячем способе покрытия поверхность покрываемой детали сплавляется с металлом покрытия, образуя металлическую пленку с промежуточными слоями. Например, при горячем цинковании возникают промежуточные слои: FeZnis, FeZnio, FeZn7, твердый а-ра-створ цинка в железе. Образующиеся слои интерметал-лидов сильно понижают эластичность покрытия и тем самым могут снижать его защитные свойства. Интер-металлиды обусловливают также охрупчивание цинкового покрытия. [30]
Страницы: 1 2 3 4 5