Cтраница 3
При облучении вещества скорость образования радиационных дефектов, наибольшая в начале облучения, затем постепенно снижается. Полное же радиационное повреждение монотонно и непрерывно возрастает с течением времени и асимптотически приближается к некоторой предельной величине. Пример такого процесса представлен на фиг. Приступая к исследованию конкретной системы, целесообразно набросать график роста концентрации спинов во времени. [31]
Следует отметить, что результаты исследований радиационных дефектов ( РД) в полупроводниках, особенно в кремнии, внесли существенный вклад в физику кристаллов с дефектами. [32]
При внедрении ионов бора тип образующихся радиационных дефектов иной, чем при внедрении фосфора. Центрами ее зарождения служат дислокационные петли, возникающие при взаимодействии точечных дефектов в процессе легирования. Распад включений новой фазы в процессе отжига приводит к появлению в междоузлиях дополнительных атомов кремния, способных вытеснить атомы бора из узлов решетки. С повышением температуры отжига доля замещающих атомов бора растет. Если температура отжига превышает 800 С, доля замещающих атомов бора практически перестает зависеть от условий легирования. [33]
Однако при обработке в материале образца образуются радиационные дефекты, которые частично снимаются при отжиге. [35]
Строгой теории, учитывающей динамику накопления и отжига радиационных дефектов, в настоящее время пока не существует. По-видимому, существенную роль в картине радиационного повреждения металлов играют ( п, р) - и ( п, а) - реакции, однако еще неясна роль этих реакций по отношению к элементарным и комплексным дефектам, вызванным смещениями атомов. Тем - не менее в ряде случаев в сталях даже из-за небольших примесей элементов, на ядрах которых происходят эти реакции, может заметно повыситься вклад тепловых нейтронов в радиационное охрупчивание стали. [36]
![]() |
Радиационный отжиг изменения размеров графита ( на кривых указана температура облучения. [37] |
Вследствие интенсивной диффузии в локализованных зонах происходит отжиг радиационных дефектов. Действие такого отжига усиливается при оптимальной температуре облучения. [38]
Интересно отметить, что одновременно с кинетикой рекомбинации радиационных дефектов нами наблюдалась слабая и спадающая во времени самопроизвольная люминесценция облученных образцов Кинетика спада люминесценции во времени коррелирует с наблюдаемой методом ЭПР рекомбинацией 07 и е -, что позволяет сделать предположение о тесной связи этих двух процессов. [39]
Величина пороговых энергий позволяет правильно предугадывать возможность возникновения соответствующих радиационных дефектов в минералах ( дополнительных электронных вакансий и повышения концентраций электронов, дефектов Френкеля и Шотт-ки, ионизации поверхности минералов), если энергия облучения превышает пороговую. [40]
Это представляется естественным, поскольку при нагревании до 100 радиационные дефекты, ответственные за обратимое снижение параметров парвполяриза-ционных свойств, отжигаются. [41]
Ячейка корунда во всех высокоглиноземистых материалах увеличивается вследствие накопления одиночных радиационных дефектов. С уменьшением относительного содержания корунда в керамике его ячейка увеличивается в меньшей степени, что свидетельствует об амортизирующем влиянии стеклофазы на рост параметров. [42]
![]() |
Радиационное распухание аустенизированных сталей аустенитного класса. [43] |
С, связанная с ускоренным переползанием дислокаций под влиянием точечных радиационных дефектов. [44]
Некоторые из этих центров сопада-ют по энергетическому положению с известными радиационными дефектами, но имеют другие области температурной устойчивости. Напомним, что в облученном кремнии данный уровень соответствует Л - центру и появляется только после отжига образцов в диапазоне 150 - 200 К, поскольку для его возникновения необходима миграция вакансий и их захват атомами кислорода. Поэтому этот уровень, по-видимому, связан с водородсодержащим центром. Ес - 0 45 эВ), и одного центра захвата дырок Я ( Ev 0 18 эВ), которые образуются в результате миграции водорода и дефектов и их взаимодействия. [45]