Cтраница 4
Органические основания, зачастую более слабые по сравнению с силикатами четвертичного аммония, присутствуя в растворе совместно с гидроксидом щелочного металла, оказывают различное стабилизирующее воздействие на кремнезем. Так, они способны удерживать коллоидный кремнезем в форме чрезвычайно малых частиц. Была показана [144] возможность сохранять золи кремнезема с величиной удельной поверхности 950 - 1800 м2 / г, что соответствует размеру частиц всего лишь 2 - 3 нм при отношении SiO2: Na2O в интервале от 7: 1 до 20: 1, за счет присутствия органического основания с константой диссоциации по крайней мере 10 - 2 и концентрацией 0 1 - 1 5 Мл. Подходящими являются такие основания, как морфо-лин или циклогексиламин, а также третичные и четвертичные аммониевые основания. Небольшой размер частиц не можег быть сохранен в присутствии только одного гидроксида щелочного металла или же одного органического основания. Необходимые составы приготовляют добавлением амина к раствору силиката натрия с последующим удалением натрия до желаемого количества с помощью ионообменной смолы. При отсутствии амина величина удельной поверхности образующегося коллоидного кремнезема самопроизвольно уменьшается, а частицы растут. Но если амин присутствует в системе, то он адсорбируется пропорционально величине удельной поверхности кремнезема и способен тем самым стабилизировать кремнезем в форме чрезвычайно небольших частиц или полиионов. [46]