Cтраница 5
С ростом анодного напряжения коэффициенты переноса неосновных носителей через базовые слои увеличиваются в результате уменьшения эффективных толщин этих слоев. Учет этого обстоятельства чрезвычайно усложняет расчет du / tW - стойкости тиристоров. [61]
Такие транзисторы изготавливаются из германия га-типа, который является базовым слоем. В лунки, протравленные на этом слое, вводятся акцепторные и донорные примеси. При нагреве до 900 С сплавы переходят в жидкое состояние ( как при сплавной технологии) и одновременно имеет место диффузия примесей в базовый, слой, поэтому транзисторы называются диффузионно-сплавными. [62]
Отсюда ясно, что при низких уровнях инжекции в базовых слоях тиристора преобладает дрейфовый механизм распространения включенного состояния. При высоких же уровнях инжекции в базовых слоях вклады обоих механизмов в процесс распространения включенного состояния являются соизмеримыми. [63]
Как видно из рисунка, структура диффузионного резистора состоит из базового слоя, коллекторного слоя и исходной подложки. [65]
В формулах (2.53) аир - повороты нормали к срединной поверхности базового слоя вокруг осей X и Y соответственно. [66]
![]() |
Сечение ( а и вид сверху ( 6 типичного диффузионного резистора. [67] |
Как видно из рисунка, структура диффузионного резистора состоит из базового слоя, коллекторного слоя и исходной подложки. [68]