Толщина - база - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Какой же русский не любит быстрой езды - бессмысленной и беспощадной! Законы Мерфи (еще...)

Толщина - база

Cтраница 1


1 Схематическое и условное изображение.| XapaiiTCpucTHKH плоскостного транзистора. d - сходные. б - выходные. [1]

Толщина базы очень мала ( единицы и десятки микрон), поэтому расстояние между р - - переходами также ничтожно мало.  [2]

3 Устройство дрейфовых транзисторов. диффузионный транзи. [3]

Толщина базы у микросплавных транзисторов составляет несколько микрон, поэтому предельная частота / а оказывается более высокой, чем у сплавных транзисторов.  [4]

Толщина базы d для уменьшения рекомбинационных потерь делается тонкой по сравнению с Lp.  [5]

6 Процесс изготовления и элемент тянутого транзистора. [6]

Толщина базы w в таких транзисторах получается 10 - г - ЗО мк и частота fa l - f - 3 Мгц.  [7]

8 Элемент кремниевого сплавно-диффузионного транзистора ( а и распределение плотностей примеси ( б. [8]

Толщина базы w в таких триодах может быть уменьшена до 0 5 - М мк, а, поскольку в процессе диффузии образуется градиент сопротивления с возрастанием в сторону коллектора, рабочие частоты триодов достигают 500ч - 11000 Мгц и выше. Транзисторы изготавливаются на мощности 100 - f - 150 мет.  [9]

Толщина базы у сплавных фотодиодов составляет десятки микрометров, а у диффузионных - 3 - - 5 мкм. Коэффициент диффузии дырок ( электроны имеют большую скорость) составляет для кремния 10 см2 / с.  [10]

11 Частотные характеристики кремниевого фотодиода. [11]

Толщина базы у сплавных фотодиодов составляет десятки микрометров, а у диффузионных - 3 - 5 мкм. Коэффициент диффузии дырок ( электроны имеют большую скорость) составляет для кремния Ю см2 / с.  [12]

13 Полупроводниковый триод типа п-р - п. [13]

Толщина базы очень мала - порядка 2 - 10 м ( меньше диффузионной длины), поэтому почти все электроны, прошедшие в базу через эмиттерный контакт, проходят и через коллекторный контакт, где на них действует ускоряющее поле.  [14]

Толщина базы меняется потому, что толщина коллекторного перехода, представляющего собой обедненный электронами и дырками слой, зависит от приложенного к нему обратного напряжения.  [15]



Страницы:      1    2    3    4    5