Cтраница 3
Большинство других участков, которые мы осмотрим, таких как мультиплицирования на фотоповторителях и фотоштампах, отмывки стеклянных пластин, вакуумного напыления характеризуются незначительным применением горючих материалов, в первую очередь этилового и изопропилового спирта, ацетона. Категория всех участков Д, а помещения не являются взрыве - и пожароопасными по ПУЭ. Для сохранения названной категории необходимо знать, что в аварийной ситуации на каждые 100 м2 площади участка при высоте потолков 4 2 м может быть разлито 9 - 10 л ЛВЖ, используемых для отмывки деталей и заготовок. [31]
![]() |
Классификация методов мультипликации. [32] |
По характеру движения стола фотоповторители разделяются на приборы со старт-стопным движением стола и фотоповторители с непрерывным движением стола. [33]
![]() |
Характеристики объективов для редукционных камер. [34] |
Однако в большинстве случаев увеличение размеров промежуточных оригиналов ограничивается полем зрения оптики, применяемой в фотоповторителях. [35]
![]() |
Схема хода лучей в объективе. [36] |
Особую трудность в изготовлении имеют объективы с высокой разрешающей способностью, которые ставятся в оптические системы фотоповторителей и генераторов изображения. [37]
![]() |
Основные характеристики репродукционных объективов. [38] |
Это, в свою очередь, позволяет изготовлять эталонные фотошаблоны ( при использовании на этапе мультипликации фотоповторителей типа ЭМ-562) с размерами изображения элементов модулей 10x10 мм, минимальным элементом топологии 2 мкм и точностью воспроизведения 0 1 мкм. [39]
![]() |
Спектральные характеристики эмульсионных фотопластин, ксеноновых импульсных ламп и желто-зеленого светофильтра. [40] |
Практически очень малая длительность импульса ( 5 - 16 икс) позволяет использовать непрерывное движение координатного столика фотоповторителя. [41]
![]() |
Комплект фотошаблонов для изготовления растра ДЛ. [42] |
Возможен технологический цикл, включающий дополнительно еще один пересъем полученной структуры с уменьшением в 10 раз и мультипликацией на фотоповторителе. Такой процесс позволяет изготовить фотошаблоны высокоразрешающих ДЛ ( 51 - т - 1 5 мкм), но размером не более 7 - 10 мм в диаметре. [43]
![]() |
Принципиальная оптическая схема установки проекционного совмещения и экспонирования. [44] |
В случае применения проекционной фотолитографии на малых полях ( поэлементное экспонирование изображения разных типовых или одного элемента) используется оптическая схема фотоповторителя. [45]